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文档序号:10737257

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本发明提供一种低成本的干蚀刻方法,其可高效制造具有纹理结构的硅基板,所述的纹理结构有效发挥防止光散射的效果,并在之后工序中形成规定的薄膜时也可覆盖良好地成膜。包含第一工序,其向配置了硅基板(W)的减压下的成膜室(12)内,导入含有含氟气体、...
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