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本发明提供了一种用于半导体制造处理室的分离式泵送系统和方法。该分离式泵送方法可以提供两个独立的排气路径，每个排气路径被配置来排放不同的处理气体。排气路径可以被配置来不排放除被配置由该排气路径来排放的处理气体之外的处理气体。...
该专利属于诺发系统公司所有，仅供学习研究参考，未经过诺发系统公司授权不得商用。

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