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本发明提供一种利用原子层沉积技术制作微通道板功能层的方法，以克服微通道板利用传统氢还原技术制备功能层的固有缺陷，解决微通道板功能层制造复杂，性能不稳定，寿命不长等难题，制造出附着力强、表面光滑、厚度均匀、组成成分纯度高的电阻层和发射层，提高...
该专利属于中国科学院西安光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院西安光学精密机械研究所授权不得商用。

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