下载鳍式场效应晶体管的形成方法的技术资料

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一种鳍式场效应晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底表面具有第一介质层;刻蚀所述第一介质层,形成暴露出所述半导体衬底的第一开口;在所述第一开口内形成外延层,所述外延层填充满所述第一开口,所述外延层的载流子迁移率大于所述半导体...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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