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本实用新型公开一种研磨头及研磨装置，通过在所述限位环的底部设置若干第一槽和若干第二槽；第一槽的分布方向与研磨头旋转的方向保持一致，第二槽的分布方向与研磨头旋转的方向相反，在进行化学机械研磨时，研磨残渣大部分可由所述第一槽排出去，少部分由所述...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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