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本发明提供了一种超导化合物用基板及其制造方法,其能够与铜的高取向的同时实现优异的附着强度。作为解决课题的手段,其特征在于,对以90%以上的压下率加工的铜箔的表面进行溅射蚀刻,除去表面的附着物,对非磁性的金属板进行溅射蚀刻,利用轧辊将所述铜箔...该专利属于东洋钢钣株式会社;住友电气工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东洋钢钣株式会社;住友电气工业株式会社授权不得商用。
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本发明提供了一种超导化合物用基板及其制造方法,其能够与铜的高取向的同时实现优异的附着强度。作为解决课题的手段,其特征在于,对以90%以上的压下率加工的铜箔的表面进行溅射蚀刻,除去表面的附着物,对非磁性的金属板进行溅射蚀刻,利用轧辊将所述铜箔...