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提供一种在磁性记录介质中使用的并且具有低饱和磁通密度的软磁性膜层用合金和溅射靶材料。所述合金包含选自由Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Ni、Cu、Al、B、C、Si、P、Zn、Ga、Ge和Sn组成的组中的一种或多...
该专利属于山阳特殊制钢株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过山阳特殊制钢株式会社授权不得商用。

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