下载MOS晶体管的形成方法的技术资料

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一种MOS晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底表面具有伪栅,位于所述伪栅两侧的侧墙,覆盖所述半导体衬底和所述侧墙的介质层,所述介质层的顶表面与所述伪栅的顶表面齐平;去除所述伪栅,形成开口,所述开口暴露出部分半导体衬底表面;...
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