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本发明涉及一种化学气相沉积设备及沉积方法。化学气相沉积设备包括反应腔室，反应腔室的底部设置有用于承载反应基板的基座，基座的四周还设置有活动挡板，当活动挡板移动到反应基板部分区域的上方时，遮挡部分区域，使得反应基板上未被遮挡的区域能够单独成膜...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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