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一种鳍式场效应晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底上具有相邻的至少两个凸起的鳍部,横跨所述鳍部顶部和侧壁表面的栅极结构,位于栅极结构两侧的鳍部内的源/漏区;在所述源/漏区上选择性外延形成半导体层,所述半导体层覆盖鳍部的部分...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种鳍式场效应晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底上具有相邻的至少两个凸起的鳍部,横跨所述鳍部顶部和侧壁表面的栅极结构,位于栅极结构两侧的鳍部内的源/漏区;在所述源/漏区上选择性外延形成半导体层,所述半导体层覆盖鳍部的部分...