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本实用新型公开了一种用于激光脉冲整形的等离子体开关，该等离子体开关的背景气体中混有易电离的气体，并使气体能够处于不断流动的状态，开关中还放置有冷却装置。易电离的气体可以为三乙胺。开关的具体结构包括真空腔，以及位于真空腔内的第一透镜、第二透镜...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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