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提供一种根据微透镜的孔径形状而通过开口阵列来抑制主波束周边的旁瓣，进行高精细曝光的曝光装置以及曝光方法。通过在微透镜(64a)的射出侧设置遮光部(66b)，使在微透镜(64a)的焦点位置附近的旁瓣(Bb)的位置进行移动。在通过第二开口阵列(...
该专利属于株式会社阿迪泰克工程所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社阿迪泰克工程授权不得商用。

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