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一种磁控溅射系统技术方案
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文档序号:10474881
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一种磁控溅射系统,属于溅射镀膜工艺。本实用新型包括真空箱体,旋转阴极,旋转阴极包括设置于旋转靶材内部的一根或两根磁棒;设置在真空箱体外侧的第一、第二真空泵和用于连接真空泵的第一、第二管道;设置在真空箱体内的第一、第二工艺气体隔离板;设置在真...
该专利属于浙江上方电子装备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江上方电子装备有限公司授权不得商用。
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