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一种片状基片的连续镀膜生产系统技术方案
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文档序号:10464610
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本发明公开了一种片状基片的连续镀膜生产系统,包括依次连通的进料区、工作区和下料区,进料区包含进片台,工作区依据镀膜工艺流程方向依次包括若干预真空室、第一过渡室、镀膜沉积室、快速气氛退火室、若干预真空室,下料区包括卸料台,工作区各室均具备所需...
该专利属于中国科学院广州能源研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院广州能源研究所授权不得商用。
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