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本发明涉及一种图形化薄膜驻极体的制备方法。本发明首先在驻极体基材的一面蒸镀第一金属电极。其次在驻极体基材的另一面蒸镀第二金属电极；所述第二金属电极由若干个金属膜间隔设置而成，相邻的两个金属膜间距1mm以上。然后施加交流高压电场进行电晕极化，...
该专利属于杭州电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过杭州电子科技大学授权不得商用。

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