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本发明提供了一种多层化学机械抛光垫，其包括：抛光层，所述抛光层具有抛光表面、扩孔开口、与抛光表面平行的抛光层界面区域；多孔子垫层，该子垫层具有底表面以及平行于底表面的多孔子垫层界面区域；以及广谱终点检测窗口块体；其中所述抛光层界面区域和多孔...该专利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限公司授权不得商用。