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本发明公开了一种具备分布式布拉格反射镜的发光二极管外延片的返工方法，属于发光二极管领域。所述方法包括：在需返工的发光二极管LED外延片的正面匀一层光刻胶，所述需返工的LED外延片的背面设有分布式布拉格反射镜DBR膜层；采用反应等离子刻蚀RI...
该专利属于华灿光电(苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华灿光电(苏州）有限公司授权不得商用。

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