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本发明涉及用于制造多层体（１００）的方法，所述多层体（１００）具有部分成形的第一层（３ｍ）。其中设定，在所述方法中，将具有各个结构元件的大的深度－宽度比尤其是深度－宽度比＞０．３的第一凸纹结构成形到多层体（１００）的复制层（３）的第一区域（...
该专利属于OVD基尼格拉姆股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过OVD基尼格拉姆股份公司授权不得商用。

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