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本发明提供一种方法和一种设备,其包括用于产生离子的离子源;真空室,其具有用于接收离子的入口孔径,和用于使离子从所述真空室通过的出口孔径。在所述入口孔径与出口孔径之间提供至少一个离子导向,所述至少一个离子导向具有进口端和出口端。所述至少一个离...该专利属于DH科技发展私人贸易有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过DH科技发展私人贸易有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种方法和一种设备,其包括用于产生离子的离子源;真空室,其具有用于接收离子的入口孔径,和用于使离子从所述真空室通过的出口孔径。在所述入口孔径与出口孔径之间提供至少一个离子导向,所述至少一个离子导向具有进口端和出口端。所述至少一个离...