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本实用新型公布了一种合成革湿法含浸改进装置，包括含浸槽，含浸槽内设置有若干导轮，基布依次穿过导轮，并且在含浸槽的两端分别设置有导轮，基布穿过导轮，其特征在于：所述含浸槽内的导轮分别上下两排，其中含浸槽上设置有若干挤压机构。本实用新型结构简单...
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