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本实用新型揭示了一种晶圆背面清洗装置，包括清洗结构，用于对晶圆的背面进行清洗，吹扫结构，所述吹扫结构与清洗结构相对设置，且位于所述清洗结构的正上方，以在清洗时对所述晶圆边缘提供高压气体进行保护。所述吹扫结构在晶圆清洗时提供高压气体，从而能够...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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