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制造液体喷射头基底的方法技术
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文档序号:1025454
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本发明公开了一种用于制造液体喷射头基底的方法,所述基底包括具有用于供应液体的供给端口的硅基底。所述方法包括:在硅基底表面上设置蚀刻掩模层,所述蚀刻掩模层在与所述供给端口相对应的部分上具有开口;通过经由蚀刻掩模层上的开口对硅基底进行各向异性蚀...
该专利属于佳能株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过佳能株式会社授权不得商用。
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