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本发明公开一种离形层、应用其的可挠式装置、及应用其的可挠式基板的制造方法。离形层包括一包含氢氧基(hydroxyl group)的硅氧烷类材料，离形层的第一表面上氢氧基的数量小于相对的第二表面上氢氧基的数量。...
该专利属于财团法人工业技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过财团法人工业技术研究院授权不得商用。

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