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强磁性材料溅射靶制造技术
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文档序号:10242534
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一种溅射靶,其包含金属基质相和至少含有Cr2O3的氧化物相,并且含有1mol%~16mol%所述Cr2O3,所述金属基质相包含Co和Pt、Co和Cr、或者Co、Cr和Pt,该溅射靶的特征在于,作为杂质的碱金属的总量为30重量ppm以下。由于...
该专利属于吉坤日矿日石金属株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过吉坤日矿日石金属株式会社授权不得商用。
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