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本实用新型涉及超声雾化进样的挥发溶剂辅助电离低压光电离质谱装置。该装置包括质谱机构，所述质谱机构包括相邻连接的质谱室和光电离室，所述质谱室的一侧壁上设有后取样锥，另一侧壁上设有质谱室真空泵接口，质谱室内设有离子传输系统和质量分析器；所述后取...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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