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一种热敏成像元件包含具有式（Ⅰ）的结构的ＩＲ染料，其中Ｒ基团的至少一个为由曝露于ＩＲ辐射或热诱导化学反应转变为比所述Ｒ更强的电子给体基团的基团；或者其中Ｒ基团的至少一个为由曝露于ＩＲ辐射或热诱导化学反应转变为比所述Ｒ更强的电子受体基团的基团...
该专利属于爱克发印艺公司所有，仅供学习研究参考，未经过爱克发印艺公司授权不得商用。

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