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本发明公开了一种螯合型三元共聚防垢剂，由螯合性基团单体、AM和AA混合反应而成，且按照质量百分数计，所述螯合性基团单体占总量的60％～80％，AM占总量的20％～30％，AA占总量的3％～7％。本发明各项性能均优于现在的除垢剂，且合成成本低...
该专利属于彭光明所有，仅供学习研究参考，未经过彭光明授权不得商用。

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