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本发明提供一种碳化硅镀膜的低辐射玻璃及其制备方法，该低辐射玻璃包括玻璃基片和功能膜层，所述功能膜层包括SiC膜层。SiC膜层能满足常规介质层材料的性能的同时而且能大幅度提高溅射速率。通过实验发现SiC膜层的溅射速率是3.23nm m/min...
该专利属于天津南玻节能玻璃有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津南玻节能玻璃有限公司授权不得商用。

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