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本发明提供铥钬双掺激光器、激光增益介质和波长调控方法，包括：铥钬双掺激光增益介质，泵浦源；所述铥钬双掺激光增益介质包括：掺杂浓度为0.01at.%-1at.%的钬离子，和满足钬铥离子掺杂浓度比1:5-1:80的铥离子；所述泵浦源用于为所述铥...
该专利属于中国科学院理化技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院理化技术研究所授权不得商用。

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