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本发明提供一种利用光刻技术形成图案、特别是以NPD方式形成图案时防止厚度降低以及其导致的抗蚀剂的抗蚀刻性下降从而有用于形成具有优异的敏感度和分辨率的精细抗蚀剂图案的化学式1的丙烯酸类单体、包含有从上述丙烯酸类单体衍生的重复单元的抗蚀剂聚合物...
该专利属于锦湖石油化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过锦湖石油化学株式会社授权不得商用。

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