【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开一种螺旋光纤光栅的刻写装置，其结构包括：紫外光源（101）、准直聚焦透镜（102）、掩模板（103）、电机控制系统，其中电机控制系统主要由旋转电机和前进电机组成。本技术可以刻写布拉格型螺旋光纤光栅和长周期螺旋光纤光栅，利用刻写的螺旋光纤光栅能够产生涡旋光束和对光束的偏振控制。该技术的结构明晰，稳定性高，制作简单。【专利说明】—种螺旋光纤光栅的刻写装置
本技术涉及刻写光纤光栅的
，特别涉及一种螺旋光纤光栅的刻写装置，采用掩模板法单面曝光刻写的螺旋光纤光栅。
技术介绍
涡旋光束的特性在于在光束横截面上相位具有空间非均匀分布，光束携带了一定的轨道角动量分布，其中心点位相具有奇异性。此光束在高数值孔径透镜聚焦下能产生特殊的场分布，在微结构操控和量子通信等领域有广泛应用。采用单面曝光技术将光纤刻写成螺旋型光栅，从而在光纤中激发出润旋光束。另外随着光纤通信和光纤传感技术的快速发展，人们对全光纤型光波调制器件的功能及性能提出了更高要求，手征光纤光栅因其具有圆偏振选择特性而备受关注，采用单面曝光技术将光纤刻写成长周期螺旋型光栅，从而实现对光...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张晓强，王安廷，林中晰，许立新，
申请(专利权)人：中国科学技术大学，
类型：实用新型
国别省市：
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