一种真空速凝晶化炉制造技术

技术编号:9969556 阅读:173 留言:0更新日期:2014-04-25 20:22
一种真空速凝晶化炉,涉及一种晶化炉,由箱体(1)、坩埚(4)、中间包(2)、水冷轴(3)、滚筒(8)和收料罐(6)组成,通过在箱体(1)外设置真空机组和冷却风机,在箱体(1)内安装中间包(2)、水冷轴(3)、坩埚(4)和滚筒(8),箱体(1)底部的地下室(10)内设置收料罐(6),以此来达到甩片在真空速凝晶化炉内直接晶化热处理的目的;本实用新型专利技术结构简单,实用性强,安装和维护均比较方便,操作起来比较方便,有效解决了现有甩片容易被氧化的问题,提高了产品的性能和工作效率。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种真空速凝晶化炉,涉及一种晶化炉,由箱体(1)、坩埚(4)、中间包(2)、水冷轴(3)、滚筒(8)和收料罐(6)组成,通过在箱体(1)外设置真空机组和冷却风机,在箱体(1)内安装中间包(2)、水冷轴(3)、坩埚(4)和滚筒(8),箱体(1)底部的地下室(10)内设置收料罐(6),以此来达到甩片在真空速凝晶化炉内直接晶化热处理的目的;本技术结构简单,实用性强,安装和维护均比较方便,操作起来比较方便,有效解决了现有甩片容易被氧化的问题,提高了产品的性能和工作效率。【专利说明】一种真空速凝晶化炉【
】本技术涉及一种晶化炉,尤其是涉及一种真空速凝晶化炉。【
技术介绍
】已知的,目前在钕铁硼行业,真空速凝炉在近几年来获得了广泛应用,但是现有的真空速凝炉是将1450°C钢液经过水冷辊快速冷却成900°C以下的薄片后直接落到一个水冷盘里,这样的薄片并没有完全晶化,薄片在600°C到900°C时晶体还在继续生长,这个晶体生产过程还需要半个小时左右,这个过程叫做温度均匀化过程,也叫晶体过程,而现有的真空速凝炉甩出的薄片直播落在水冷盘里,薄片温度很快降了下来,破坏了晶体继续生长的条本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曹俊英袁宇杰刘锦成刘小欣张晓宇张新合
申请(专利权)人:洛阳八佳电气科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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