纹理表面用遮盖薄膜制造技术

技术编号:995362 阅读:187 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
披露能为各种纹理表面提供保护的遮盖薄膜。这种薄膜无需使用粘合剂涂层就能在遮盖薄膜与纹理表面之间获得可调节、可控制的粘合程度。使用不同材料混合物及不同材料百分比,可以控制遮盖薄膜与要保护的纹理表面之间所产生的粘合程度。本发明专利技术的遮盖薄膜即使在受热及老化后,仍容易从纹理表面除去。

【技术实现步骤摘要】
1.专利
本专利技术涉及粘合到纹理表面并且即使在受到热或老化后,仍能容易地从表面除去的遮盖薄膜。遮盖薄膜优选不需要粘合剂涂层而粘合到纹理表面上。本专利技术还涉及粘合到纹理表面的遮盖薄膜的生产方法。2.相关技术说明遮盖薄膜通过充当物理阻挡层来保护表面使其免受污染、划伤、磨损以及擦伤。当这些表面在使用前要进行运输或处理时,由遮盖薄膜提供的保护就特别有用。遮盖薄膜在许多应用中用作各种表面,尤其是相对光滑的表面如丙烯酸类、聚碳酸酯、玻璃、抛光或涂漆金属及上釉陶瓷的表面保护覆盖层。纹理表面通常困难更大,因为这些表面或者要求粘合剂具有更好的流动性,或者要求使用更强的粘合剂涂层。要使粘合剂具有更好的流动性,就必须使用更多的粘合剂涂层或较低粘度的粘合剂来填充空隙。这些粘合剂涂层更容易挤出,并且易于出现粘合失效。然而,使用更强的粘合剂则会在除去粘合剂时破坏接触区域或者留下不需要的残余物。传统上讲,表面保护是通过电晕处理薄膜或粘合剂的纸张及薄膜来提供的。使电晕处理薄膜接受静电放电来氧化薄膜表面。这种氧化增大了薄膜表面张力以及与极性表面的吸引力。这种电晕处理薄膜一般是非压花薄膜,并且要依靠很窄的电晕处理窗口来促进粘合。薄膜没有压花,因而易于出现硬皱纹及凝胶。电晕处理也会随时间而消除。总体而言,电晕处理薄膜粘合程度太低,不能与纹理表面粘合。为了实现与纹理表面的粘合,过去一直要求使用粘合剂涂层。然而,粘合剂涂层纸张由于湿度和液体很容易受潮,湿气会渗入纸张,使遮盖材料从受保护表面上松开或使二者完全分离。涂有粘合剂的薄膜不易受潮,并且可以做成透明的以便进行目测检查。为了可除去,这些薄膜的剥离粘合值一般小于2磅/英寸(907g/in)。根据定义,压敏粘合剂具有永久粘性,并且在其整个使用寿命中具有高粘度及弹性。虽然压敏粘合剂涂层已经得到成功应用,但若在运输及储存过程中受热或长期老化会增强粘合性。可以使用改性剂来减小这种增强作用,但这些改性剂会迁移并污染受保护表面。受热及老化还会导致增粘剂、表面活性剂、消泡剂、增塑剂以及残余溶剂的迁移,这样就会污染表面。与电晕处理遮盖薄膜类似,非压花的涂有粘合剂的遮盖薄膜也很容易出现硬皱纹及凝胶。最后,粘合剂涂层要求有额外的步骤来将粘合剂涂层施涂到预成型薄膜上(例如混合、涂布、固化、交联、干燥等)。在可除去遮盖中,受保护表面与粘合剂之间应在所需的剥离力下干净地脱胶(粘合失效)。较高的粘合程度会破坏脆弱的基材或涂层(基材破坏)或者使遮盖薄膜不能除去。粘合剂本身也会分离(内聚破坏)并要求使用溶剂来除去残余粘合剂。若受保护表面要用于电子、光学或食品工业时,这些残余粘合剂就显得尤为重要。采用遮盖薄膜的先进技术得到了不需要进行电晕处理或使用粘合剂涂层的遮盖薄膜,这些薄膜包括单面消光(“OSM”)遮盖薄膜。这类OSM薄膜在美国专利Nos.4,895,760以及5,100,709中有更完整的说明,上述两个专利转让给TredegarIndustries,Inc.,Richmond,VA,并且其全文在此参考引入。这类遮盖薄膜依靠很光滑的表面易于相互粘合的倾向。因此,这些薄膜不会粘合到纹理表面。按照Sekisui Chemical Co.,Ltd.,Osaka,Japan的美国专利Nos.5,286,781与5,427,850中的说明,多层遮盖薄膜也已经与压敏粘合剂共挤出。上述两个专利全文在此参考引入。这些薄膜是苯乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBS),苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯(SIS),苯乙烯-丁二烯(SB)以及苯乙烯-异戊二烯(SI)嵌段共聚物。这些嵌段共聚物是部分由于带有双键,因而热稳定性及老化稳定性低。这些薄膜还含有防粘连剂(增量油、聚乙烯亚胺)以便获得良好的退卷能力,减少粘性增加并防止薄膜以卷材存放时自身层合。防粘连剂在一定温度以及随时间延长会迁动(起霜)而最终污染基材表面。防粘连剂的用量不同也会导致对基材的粘合性不同。利用遮盖薄膜最新的技术进展得到了对温度依赖性较小的共挤出多层遮盖薄膜。这些OSM薄膜在美国专利Nos.5,693,405;6,040,046以及6,326,801中有更详细的说明,所有这些专利转让给Tredegar Industries,Inc.,Richmond VA,其全文在此参考引入。然而,这些薄膜要求相对光滑的表面(0至150Ra),并且不能粘合到纹理表面上。纹理表面与光滑表面相比,粗糙度值一般约在150Ra至1,000Ra之间。例如,苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯(SEBS)、苯乙烯-乙烯-丙烯(SEP)以及它们的混合物不能粘合到纹理表面上。另外,Bynel/SEBS或Bynel/SEP(Bynel是一种酸改性乙烯丙烯酸酯,可以从Dupont得到)的混合物不适于长时间以及在一定温度下放置,会在基材上留下不需要的残余物。本专利技术还可在转让给Tredegar Industries,Inc.Richmond,VA的美国专利Nos.5,693,405中说明的遮盖薄膜上形成了所需的带有间断或者未压花区域的图案。形成压花的材料可以含有有用的书面信息或艺术图案。因而,依然需要一种能通过提供功能性的、粘合程度可调节及可控制的遮盖薄膜来为纹理表面提供足够的保护。这一点是通过不使用粘合剂涂层以及避免使用粘合剂涂层时相关的缺陷而实现的。这里对于已知遮盖薄膜的某些优点及缺点及其制备方法的说明不是要用来限制本专利技术的范围。实际上,本专利技术包括一些或所有上述说明的方法及化学试剂,同时本专利技术不具有相关的缺点。本专利技术概述根据本专利技术,提供了一种不需要粘合剂涂层就能粘合到纹理表面并为纹理表面提供保护的遮盖薄膜。此外,改善的薄膜优选单面消光(OSM)类型,这样基本上就可以将薄膜粘连及起皱降至最低或者完全消除这些问题。由改善薄膜获得的粘合程度是可调节的,这样就可以使其适用各种基材化学性质及外形结构。例如,本专利技术的改善遮盖薄膜能在室温或常温下为有纹理的聚碳酸酯、丙烯酸类、聚氯乙稀、尼龙以及聚酯(PET,PETG,PEN)提供功能性粘合性。因此,对于实际上任何给定的包括温度、生产线设备流程以及所需应用在内加工环境,本专利技术的改善遮盖薄膜能为相关表面提供足够的粘合性。本专利技术的改善遮盖薄膜在经过老化和/或加热后仍然可以将其除去。本专利技术的改善遮盖薄膜包括一种薄膜,该薄膜优选带有含光滑表面的第一面,该光滑表面不含粘合剂层;含粗糙表面的第二面;以及任选地插在第一面与第二面之间的一个或多个芯层。光滑面含有至少一层热塑性薄膜,并且包含具有饱和橡胶中间嵌段的热塑性弹性体作为重要组分,该弹性体选自苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯,苯乙烯-乙烯/丙烯-苯乙烯,苯乙烯-乙烯/丙烯,苯乙烯-乙烯/丁烯,星型(苯乙烯-丁二烯)n以及星型(苯乙烯-异戊二烯)n,其中n约为1-2000的整数。使用中,将光滑面施用到要保护的表面。粗糙表面也是由至少一层热塑性薄膜构成。根据本专利技术实例的另一个特征,本专利技术提供了一种薄膜的制备方法,该薄膜带有含光滑表面、不含粘合剂涂层的第一面,含粗糙表面的第二面以及任选的插在第一面与第二面之间的一个或多个芯层。制备方法包括选择用于形成含光滑表面的第一面的主要组分。正是第一面的光滑表面与要保护的基材的粗糙表面粘合。一旦选择以后,确定组分的相对百分含量以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮盖薄膜,其包括:第一面,该面带有不含粘合剂涂层的光滑表面;带有粗糙表面的第二面;第一面的光滑表面能可去除地粘合到表面粗糙度约大于约150Ra的纹理表面上,该光滑表面含有:重量百分比约为30%至85%的至 少一种热塑性弹性体,该弹性体含有饱和橡胶中间嵌段,该弹性体选自苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯,苯乙烯-乙烯/丙烯-苯乙烯,苯乙烯-乙烯/丙烯以及苯乙烯-乙烯/丁烯;约10%至60%的增粘树脂。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:G巴拉克霍夫P斯特切尔B鲍威尔
申请(专利权)人:屈德加薄膜产品股份有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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