本发明专利技术提供一种关键尺寸测量装置的光量强度调整系统、关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，属于关键尺寸测量技术领域，其可解决现有的光量强度调整系统光量强度的补正调节效果不佳，光量强度不稳定，无法准确调整补正量的问题。本发明专利技术的光量强度调整系统通过设置光量强度测量单元和模数转换单元使光量强度变化的光学信号实时的转化为可处理的数字信号，方便了对光量强度调整系统的操作；同时通过设置补正量计算单元准确的计算得到补正量，有利于实现准确的光量强度调整。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于显示
，具体涉及一种关键尺寸测量装置的光量强度调整系统、关键尺寸测量装置的光量强度调整方法。
技术介绍
在阵列基板的制作中，关键尺寸的监控测量非常重要，其测量结果的准确性将影响到整个显示装置的性能，例如，阵列基板的条状电极的线宽就是阵列基板的关键尺寸，将影响到显示装置的透过率等性能。在阵列基板上有一处线宽测量区，用于测量条状电极的线宽，一般采用发光源发光从条状电极的上方或下方进行照射，则条状电极两侧与条状电极覆盖部分的透过光量不同即灰阶不同，因此通过测量条状电极两边的灰度变化节点距离即可测量关键尺寸。目前，关键尺寸测量装置中由于发光源的功率降低、发光源的更换造成亮度变化，将直接影响关键尺寸的线宽数值。目前，可米用光量补正的方式来改变光量强度，例如，将O?255个灰阶均分在0%?100%的光量强度调节，光量输出曲线(光量输出为横轴，灰阶为纵轴)坡度角较大时，光量调节0%?100%均分到的O?255灰阶较多，当发射源使用一段时间功率降低后，光量输出曲线坡度角较小，光量调节0%?100%均分到的O?255灰阶就会变少，无法保证光量输出的稳定。但上述的光量强度补正调节的存在补正效果不佳，光量强度不稳定，补正量不准确的缺点。导致关键尺寸测量数据不够准确，工序能力指数(CPK)偏低。当上述的光量补正调节方法无法满足光量补正时(光强整体较亮或整体较暗)，也可以采用调整关键尺寸测量装置中发光源的透过率的方法进行调节，该方法主要是通过改变发光源输出时透光率的多少来整体改变输出光强。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是解决现有关键尺寸测量装置的光量强度调整方法存在补正量调整不准确的问题，提供一种关键尺寸测量装置的光量强度调整方法。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，包括如下步骤:S1、获取初始光量强度范围内的若干点为基准光量点，并设置各基准光量点的光量强度管控范围；S2、执行经验补正量，获得各基准光量点补正后的光量强度，判断各基准光量点补正后的光量强度是否全部符合基准光量点光量强度的管控范围，若是，则结束光量强度调整，若否，则执行下述步骤；S3、根据各基准光量点补正后与补正前的光量强度计算当前补正量；S4、执行当前补正量，获得各基准光量点补正后的光量强度，判断各基准光量点补正后的光量强度是否符合上述的基准光量点光量强度的管控范围；若是则结束光量强度调整；若否则判断补正次数是否达到预定值，若未达到则执行步骤S3，若达到则报警。优选的是，所述包括步骤S3包括:计算各基准光量点补正后与补正前光量强度的差的绝对值的平均值，以该平均值为当前补正量。优选的是，所述步骤S4中的执行当前补正量之前还包括确定补正方向的步骤:根据基准光量点补正后的光量强度与补正前光量强度的差值来确定的，若基准光量点补正后的光量强度大于补正前光量强度，则向降低光量强度的方向进行补正，若基准光量点补正后的光量强度小于补正前光量强度，则向增加光量强度的方向进行补正。优选的是，所述的基准光量点的光量强度包括落射光模式和/或透射光模式下的光量强度。优选的是，所述的基准光量点分别为初始光量强度范围内的若个均分点。优选的是，所述的设定值为2-5范围内的任一整数值。优选的是，所述的设定值为2。优选的是，所述的基准光量点为3-9个。优选的是,所述的基准光量点为9个。本专利技术的另一个目的是解决现有关键尺寸测量装置补正量调整不准确的问题，提供一种关键尺寸测量装置的光量强度调整系统。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种关键尺寸测量装置的光量强度调整系统，所述的光量强度调整系统包括:光量强度测量单元，用于将光量强度的光学信号转换为模拟电流信号；模数转换单元，用于将光量强度测量单元的模拟电流信号转换为数字电流信号；存储单元，用于存储各基准光量点光量强度及其光量强度管控范围，以及经验补正量;光量强度比较单元，用于判断各基准光量点当前的光量强度是否符合基准光量点光量强度的管控范围，若是则结束光量强度调整，若否则通知光量强度调整单元进行补正；光量强度调整单元，用于根据补正量调整光量强度；当前补正量计算单元，用于根据各基准光量点当前的光量强度与补正前的光量强度确定当前补正量；报警单元，用于判断补正次数是否达到预定值，并在补正次数达到预定值时报警。优选的是，所述的光量强度测量单元为电荷耦合式摄像头。本专利技术的通过设置光量强度测量单元和模数转换单元使光量强度变化的光学信号实时的转化为可处理的数字信号，方便了对光量强度调整系统的操作，有利于实现准确的光量强度调整。本专利技术的关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，对光量强度的数字信号的处理，实现了准确的光量强度调整。【附图说明】图1为本专利技术实施例1所述的光量强度调整系统的组成示意图。图2为本专利技术实施例2所述的关键尺寸测量装置的光量强度调整方法的步骤执行示意图。【具体实施方式】为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本专利技术作进一步详细描述。实施例1如图1所示，本实施例提供一种关键尺寸测量装置的光量强度调整系统，包括:光量强度测量单元，用于将光量强度的光学信号转换为模拟电流信号；优选地，所述的光量强度测量单元为电荷耦合式摄像头；模数转换单元，用于将光量强度测量单元的模拟电流信号转换为数字电流信号；存储单元，用 于存储各基准光量点光量强度及其光量强度管控范围，以及经验补正量;光量强度比较单元，用于判断各基准光量点当前的光量强度是否符合基准光量点光量强度的管控范围，若是，则结束光量强度调整，若否，则通知光量强度调整单元进行补正；光量强度调整单元，用于根据补正量调整光量强度；当前补正量计算单元，用于根据各基准光量点当前的光量强度与补正前的光量强度确定当前补正量；报警单元，用于判断补正次数是否达到预定值，并在补正次数达到预定值时报警。本专利技术的实施例通过设置光量强度测量单元和模数转换单元使光量强度变化的光学信号实时的转化为可处理的数字信号，方便了对光量强度调整系统的操作，有利于实现准确的光量强度调整。实施例2如图2所示，本实施例提供一种关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，包括如下步骤:S1.设定基准光量点和每个基准光量点的光量强度的管控范围使用实施例1所述的光量强度调整系统分别在落射光模式和透射光模式下，检测、存储、显示初始光量强度，分别记为\、Ytl，分别取该初始光量强度的范围内的若干点作为基准光量点，因为不同的金属层对应的光强不同，因此需设置不同的基准光亮点，例如，可以取初始光量强度0-100%范围内的9个点作为基准光量点，则在落射光模式下，第η个基准光量点的光量数值记为Χη，η为1-9的自然数；则在投射光模式下，第η个基准光量点的光量数值记为Υη，η为1-9的自然数，见表1。当然也可以取其它数目的基准光量点，例如基准光量点的数目在3-9范围内均可，基准光量点的数目越多对于补正量的计算越精确。对每个模式下的基准光量点的设置管控误差P，则第η个基准光量点的管控误差记为Ρη，η为1-9的自然数，见表1。第η个基准光量点的光量强度在落射光模式和透射光模式下的管控范围分别为XnX (1-Pn)≤Xn≤XnX (1+Ρη)，YnX (1-Pn)≤Yn≤Yn本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、获取初始光量强度范围内的若干点，并设置为基准光量点，并设置各基准光量点的光量强度管控范围；S2、执行经验补正量，获得各基准光量点补正后的光量强度，判断各基准光量点补正后的光量强度是否全部符合基准光量点光量强度的管控范围，若是，则结束光量强度调整，若否，则执行下述步骤；S3、根据各基准光量点补正后与补正前的光量强度计算当前补正量；S4、执行当前补正量，获得各基准光量点补正后的光量强度，判断各基准光量点补正后的光量强度是否符合上述的基准光量点光量强度的管控范围；若是，则结束光量强度调整；若否，则判断补正次数是否达到预定值，若未达到，则执行步骤S3，若达到，则报警。
【技术特征摘要】
1.一种关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，其特征在于，包括如下步骤: 51、获取初始光量强度范围内的若干点，并设置为基准光量点，并设置各基准光量点的光量强度管控范围； 52、执行经验补正量，获得各基准光量点补正后的光量强度，判断各基准光量点补正后的光量强度是否全部符合基准光量点光量强度的管控范围，若是，则结束光量强度调整，若否，则执行下述步骤； 53、根据各基准光量点补正后与补正前的光量强度计算当前补正量； 54、执行当前补正量，获得各基准光量点补正后的光量强度，判断各基准光量点补正后的光量强度是否符合上述的基准光量点光量强度的管控范围；若是，则结束光量强度调整；若否，则判断补正次数是否达到预定值，若未达到，则执行步骤S3，若达到，则报警。2.如权利要求1所述`的关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，其特征在于，所述包括步骤S3包括: 计算各基准光量点补正后与补正前光量强度的差的绝对值的平均值，以该平均值为当前补正量。3.如权利要求1所述的关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，其特征在于，所述步骤S4中的执行当前补正量之前还包括确定补正方向的步骤:根据基准光量点补正后的光量强度与补正前光量强度的差值来确定的补正方向，若基准光量点补正后的光量强度大于补正前光量强度，则向降低光量强度的方向进行补正，若基准光量点补正后的光量强度小于补正前光量强度，则向增加光量强度的方向进行补正。4.如权利要求1所述的关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，其特征在于，所述的基准光量点的光量强度包括落射光模式和/或透射光模...
【专利技术属性】
技术研发人员：李向峰，金基用，周子卿，贠向南，许朝钦，侯本光，刘会双，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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