一种有机电致发光显示器件、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

技术编号:9866573 阅读:83 留言:0更新日期:2014-04-03 02:49
本发明专利技术公开了一种有机电致发光显示器件、其制作方法及显示装置,在对有机电致发光像素阵列进行最后的封装处理之前,将圆偏光片中的相位差膜层和偏光功能膜层依次贴覆在有机电致发光像素阵列上,省去了现有的圆偏光片中需要在偏光功能膜层两侧贴覆的TAC薄膜,以及粘结剂层等不必要的膜层,之后再对贴覆有相位差膜层和偏光功能膜层的有机电致发光像素阵列进行封装处理。这样可以提高显示器件的透过率,增加显示器件的对比度;并且,还可以减少显示器件整体的厚度,使显示器件更加轻薄,避免卷曲困难的问题。此外,由于贴覆的相位差膜层和偏光功能膜层是在真空、惰性气体或氮气保护条件下进行的,无水汽的干扰,增加了圆偏光片的耐久性。

【技术实现步骤摘要】
一种有机电致发光显示器件、其制作方法及显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种有机电致发光显示器件、其制作方法及显示装置。
技术介绍
目前,有机电致发光显不器件(Organic Electroluminesecent Display,0LED)与传统的液晶显示器件(Liquid Crystal Display, LCD)相比,由于具有响应快、色域广、超薄、能实现柔性化等特点,已经逐渐成为显示领域的主流。OLED显示器件的结构主要包括:衬底基板,制作在衬底基板上的有机电致发光像素阵列;其中,每个有机电致发光像素阵列都包含相对设置的阳极和阴极,以及位于阳极和阴极之间的发光层。OLED显示器件的发光是通过阴极中的电子和阳极中的空穴在发光层中复合时,激发发光层中的有机材料发光来实现的。而在OLED显不器件中,用作发光层的有机材料以及用作阴极的活泼金属对水气和氧气都极其敏感,因此,OLED显示器件需要比其他的显示器件更高的封装技术的支持。如果OLED显示器件封装不牢固,水气和氧气会从周围环境渗入到显示器得内部,从而造成阴极金属的氧化和发光层有机材料的变质,使得OLED显示器件寿命缩短,或者直接导致器件致命的损坏而影响使用。目前,在中小尺寸的OLED显示器件中,主要采用玻璃盖板的封装方式进行封装,而对于柔性或者大尺寸的OLED显示器件,现有的方法主要是对OLED显示器件进行薄膜封装,并且为了降低环境光被OLED显示器件反射而降低显示对比度和可视性,在进行封装处理后还需在OLED显示器件外部再贴覆一层圆偏光片。其中,如图1所示:由两层三醋酸纤维素酯(TAC)薄膜11中间夹一层聚乙烯醇(PVA)层12,以及一层四分之一波长片13共同组成圆偏光片5,圆偏光片5使得入射光偏振态改变,从而不能出射,提高对比度。其中,起偏振作用的是PVA层12,但是由于PVA材料极易水解,为了保护PVA层12的物理特性,因此,在PVA层12两侧需要各贴覆一层具有一定机械强度的TAC薄膜11,对其进行保护。并且,为了将PVA层12和四分之一波片53贴覆在一起,在两者之间需要增加粘结剂层14 ;为将圆偏光片贴覆在显示器件上,在四分之一波片13另一侧需要贴覆粘结剂层14以及离型膜15。在圆偏光片的最外侧,为避免刮伤还需贴覆保护层16。可以看出,现有的圆偏光片结构复杂,膜层众多,膜层较厚,一般都在200 μ m以上,工艺制作复杂。由上述可知,OLED显示器件需要贴覆的圆偏光片的结构相对复杂且膜层厚度较厚,这会带来OLED显示器件的透过率较低等问题,并且还会带来使柔性器件厚度变厚,导致卷曲困难的问题。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术实施例提供了一种有机电致发光显示器件、其制作方法及显示装置,用以解决现有的贴覆有圆偏光片的有机电致发光显示器件的透过率较低、膜层较厚以及卷曲困难的问题。因此,本专利技术实施例提供了 一种有机电致发光显示器件,包括:衬底基板,设置在所述衬底基板上的有机电致发光像素阵列,包覆在所述有机电致发光像素阵列外侧的封装盖板或封装薄膜,还包括:位于所述封装盖板或封装薄膜内侧,且依次贴覆在所述有机电致发光像素阵列上的相位差膜层和偏光功能膜层。本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件,在对有机电致发光像素阵列进行最后的封装处理之前,将圆偏光片中的相位差膜层和偏光功能膜层依次贴覆在有机电致发光像素阵列上,省去了现有的圆偏光片中需要在偏光功能膜层两侧贴覆的具有一定机械强度的TAC薄膜,以及粘结剂层等不必要的膜层,之后再对贴覆有相位差膜层和偏光功能膜层的有机电致发光像素阵列进行封装处理。这样可以提高有机电致发光显示器件的透过率,增加显示器件的对比度;并且,还可以减少有机电致发光显示器件整体的厚度,使有机电致发光显示器件更加轻薄,避免卷曲困难的问题。此外,由于贴覆的相位差膜层和偏光功能膜层是在真空、惰性气体或氮气保护的条件下进行的,无水汽的干扰,增加了圆偏光片的耐久性。具体地,在本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件中,还包括:位于所述有机电致发光像素阵列与相位差膜层之间,且包覆所述有机电致发光像素阵列表面的保护层。具体地,在本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件中,还包括:位于偏光功能膜层与封装盖板之间的填充层,所述填充层用于隔绝水氧且支撑盒厚以及应对外部应力的变化。具体地,在本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件中,所述相位差膜层为四分之一波长相位差膜层。具体地,在本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件中,所述相位差膜层的材料为聚氯乙烯与聚甲基丙烯酸甲酯的混合物、聚苯乙烯和聚丙烯的混合物、或聚碳酸树脂混合物。具体地,在本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件中,所述偏光功能膜层的材料为聚乙烯醇或碳纳米管。本专利技术实施例还提供了一种上述的有机电致发光显示器件的制作方法,包括:在真空、惰性气体或氮气保护的环境内执行以下步骤:在衬底基板上形成有机电致发光像素阵列;在所述有机电致发光像素阵列上依次贴覆相位差膜层和偏光功能膜层;对贴覆有所述相位差膜层和偏光功能膜层的有机电致发光像素阵列进行封装处理。具体地,在本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件的制作方法中,采用卷轴方式将所述相位差膜层贴覆于所述有机电致发光像素阵列。具体地,在本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件的制作方法中,采用卷轴方式将所述偏光功能膜层贴覆于贴覆有所述相位差膜层的有机电致发光像素阵列。本专利技术实施例还提供了 一种显示装置,包括本专利技术实施例提供的上述有机电致发 光显不器件。【附图说明】图1为现有的圆偏光片的结构示意图;图2a至图2c分别为本专利技术实施例提供的有机电致发光显示器件的结构示意图;图3为本专利技术实施例提供的有机电致发光显示器件的制作方法流程图;图4和图5为本专利技术实施例提供的有机电致发光显示器件的具体制作示意图。【具体实施方式】下面结合附图,对本专利技术实施例提供的有机电致发光显示器件、其制作方法及显示装置的【具体实施方式】进行详细地说明。附图中各层薄膜厚度和形状不反映真实比例,目的只是示意说明本
技术实现思路
。本专利技术实施例提供了 一种有机电致发光显示器件,如图2a_图2c所示,包括:衬底基板100,设置在衬底基板上100的有机电致发光像素阵列200,包覆在有机电致发光像素阵列外侧的封装盖板400或封装薄膜300,还包括:位于封装盖板400或封装薄膜300内侧,且依次贴覆在有机电致发光像素阵列200上的相位差膜层500和偏光功能膜层600。本专利技术实施例提供的上述有机电致发光显示器件,在对有机电致发光像素阵列进行最后的封装处理之前,将圆偏光片中的相位差膜层和偏光功能膜层依次贴覆在有机电致发光像素阵列上,省去了现有的圆偏光片中需要在偏光功能膜层两侧贴覆的具有一定机械强度的TAC薄膜,以及粘结剂层等不必要的膜层,之后再对贴覆有相位差膜层和偏光功能膜层的有机电致发光像素阵列进行封装处理。这样可以提高显示器件的透过率,增加显示器件的对比度;并且,还可以减少有机电致发光显示器件整体的厚度,使有机电致发光显示器件更加轻薄,避免卷曲困难的问题。此外,由于贴覆的相位差膜层和偏光功能膜层是在真空、惰性气体或氮气保护的条件下进行的,无水汽的干扰,增加了圆本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种有机电致发光显示器件,包括:衬底基板,设置在所述衬底基板上的有机电致发光像素阵列,包覆在所述有机电致发光像素阵列外侧的封装盖板或封装薄膜,其特征在于,还包括:位于所述封装盖板或封装薄膜内侧,且依次贴覆在所述有机电致发光像素阵列上的相位差膜层和偏光功能膜层。

【技术特征摘要】
1.一种有机电致发光显示器件,包括:衬底基板,设置在所述衬底基板上的有机电致发光像素阵列,包覆在所述有机电致发光像素阵列外侧的封装盖板或封装薄膜,其特征在于,还包括: 位于所述封装盖板或封装薄膜内侧,且依次贴覆在所述有机电致发光像素阵列上的相位差膜层和偏光功能膜层。2.如权利要求1所述的器件,其特征在于,还包括:位于所述有机电致发光像素阵列与相位差膜层之间,且包覆所述有机电致发光像素阵列表面的保护层。3.如权利要求1所述的器件,其特征在于,还包括:位于偏光功能膜层与封装盖板之间的填充层,所述填充层用于隔绝水氧且支撑盒厚以及应对外部应力的变化。4.如权利要求1所述的器件,其特征在于,所述相位差膜层为四分之一波长相位差膜层。5.如权利要求4所述的器件,其特征在于,所述相位差膜层的材料为聚氯乙烯与聚甲基丙烯酸甲酯的混合物、聚苯乙烯和聚丙烯的...

【专利技术属性】
技术研发人员:何璇王龙曾庆慧刘飞
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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