一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版及其制备方法技术

技术编号:9860568 阅读:147 留言:0更新日期:2014-04-02 19:42
本发明专利技术公开了属于印刷制版技术领域的一种由版基和含硅乙烯基醚层组成的阳图无水胶印版及其制备方法。版基由铝版带材进行清洗、中和、电解、氧化、封孔后获得到;含硅乙烯基醚层即为含硅乙烯基醚涂布液在版基表面形成的单位面积质量为0.1-3.0g/m2的含硅乙烯基醚薄膜。本发明专利技术改变以往无水胶印版多层结构的设计,只用一层含硅乙烯基醚树脂层完成感光成像和斥墨作用,制得的阳图无水胶印版具有成本低、分辨率高、耐印力高、感度高、显影性能优良、用途广泛等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于印刷制版
,特别涉及一种由版基和含硅乙烯基醚层组成的无水胶印版及其制备方法。
技术介绍
传统无水胶印是一种平凹版印刷技术,它不使用水,不用传统的润版液,而是采用有不亲油墨的硅胶橡胶表面的印版、特殊油墨和一套控温系统。与传统平版胶印技术相比,无水胶印有优异的印刷效果、高效的印刷效率及环保等优点。在西方国家及日本,无水胶印已广泛应用于各个印刷领域。据统计,在日本,有15%的单张纸四色印刷机都采用无水印刷方式,20世纪90年代,无水胶印技术在美国市场也大获成功,截止到2005年,全球出现1000多家无水胶印企业,但由于制版工艺、油墨技术的薄弱和需要特殊的控温装置,使得此技术的进一步发展和普及都受到了阻碍。近年来,随着电脑技术、油墨工艺的发展,无水胶印技术取得一些进步,无水胶印的版材、油墨及印刷设备都得到了相应的发展,美国、日本、德国、瑞士都快速发展、普及了无水胶印,并取得了可观的经济效益。随着印刷业不断追求产品的高品质、高精度的趋势,传统印刷的水墨平衡控制变得越来越困难,无水胶印是现在和未来胶印的潮流,无水胶印将会部分取代传统胶印技术。在国内,无水胶印技术正在逐渐地被人们所接受,已有很多企业购买进口无水胶印机或对原有胶印设备进行结构调整实现了无水胶印。由于无水胶印的印刷质量高,尤其适合印刷精美画册、精美包装等高档印刷品,能满足市场的需求,所以都还取得了良好的经济效益。但国内无水胶印技术水平落后,所有的无水胶印版及大部分油墨都依靠进口,价格很高,很难普及,所以国内开发研究性能优良的无水胶印版材成为印刷版材制造业关注的焦点。在日本专利JP3414048中提到了传统无水胶印版中的一种硅橡胶层的制备方法。该专利技术使用90重量份的端羟基聚二甲基硅氧烷、9.8重量份的交联剂乙烯基三丁酮肟基硅烷、0.2重量份的催化剂溶解在1150重量份的异链烷烃中,涂布在感光层表面,110°C烘干3分钟,得到的硅橡胶层具有较好的强度,与感光层的附着力强,表面能低,斥墨性能优良,但是硅橡胶层极易磨损脱落,制成的无水胶印版耐印力差。在德国专利DE3545204中公开了一种含有重氮树脂的无水胶印版的制备方法。该专利技术使用重氮树脂和聚乙烯醇缩丁醛酯类成膜树脂做感光层;其还使用了硅橡胶作为斥油层,制得的无水胶印版,通过感光层的成像间接使硅橡胶层成像,故分辨率较低,耐印力较差,不到2万。
技术实现思路
基于上述现有技术,本专利技术提供一种由版基和含硅乙烯基醚层组成的无水胶印版及其制备方法。该新型阳图无水胶印版具有较好的分辨率、较好耐印力、良好感度和较好显影性能。本专利技术制备的具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版由版基和含硅乙烯基醚层组成;版基由铝版带材进行清洗、中和、电解、氧化、封孔后获得;含硅乙烯基醚层即为含硅乙烯基醚涂布液在版基表面形成的单位面积质量为0.1-3.0g/m2的含硅乙烯基醚薄膜。所述的含硅乙烯基醚涂布液由1-90质量份的含酚羟基或羧基的成膜树脂、30-99质量份的含硅乙烯基醚、0.1-1质量份的着色背景染料、1-10质量份的添加剂在200-300质量份的有机溶剂中溶解形成。所述的含酚羟基或羧基的成膜树脂为侧链上含有羧基的线性酚醛树脂、含有羧基的聚丙烯酸酯类树脂、聚乙烯醇缩醛羧酸酐酯化树脂中的一种或几种;所述的着色背景染料为碱性艳蓝、结晶紫、维多利亚纯蓝、靛蓝、甲基紫、孔雀石绿、油溶蓝中的一种或几种;所述的添加剂是产酸剂或/和红外染料;所述的有机溶剂为传统PS版用溶剂,包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单乙醚、甲乙酮、醋酸丁酯、二氧六环、N-甲基吡咯烷酮、甲醇、四氢呋喃中的一种或几种。所述的含硅乙烯基醚具有如下通式:本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版,其特征在于,所述无水胶印版由版基和含硅乙烯基醚层组成;版基由铝版带材进行清洗、中和、电解、氧化、封孔后获得;含硅乙烯基醚层即为含硅乙烯基醚涂布液在版基表面形成的单位面积质量为0.1‑3.0g/m2的含硅乙烯基醚薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版,其特征在于,所述无水胶印版由版基和含硅乙烯基醚层组成;版基由铝版带材进行清洗、中和、电解、氧化、封孔后获得;含硅乙烯基醚层即为含硅乙烯基醚涂布液在版基表面形成的单位面积质量为0.1-3.0g/m2的含硅乙烯基醚薄膜。2.根据权利要求1所述的一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版,其特征在于,所述的含硅乙烯基醚涂布液由1-90质量份的含酚羟基或羧基的成膜树脂、30-99质量份的含硅乙烯基醚、0.1-1质量份的着色背景染料、1-10质量份的添加剂在200-300质量份的有机溶剂中溶解形成。3.根据权利要求2所述的一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版,其特征在于,所述的含酚羟基或羧基的成膜树脂为侧链上含有羧基的线性酚醛树脂、含有羧基的聚丙烯酸酯类树脂、聚乙烯醇缩醛羧酸酐酯化树脂中的一种或几种;所述的着色背景染料为碱性艳蓝、结晶紫、维多利亚纯蓝、靛蓝、甲基紫、孔雀石绿、油溶蓝中的一种或几种;所述的添加剂是产酸剂或/和红外染料;所述的有机溶剂为传统PS版用溶剂,包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单乙醚、甲乙酮、醋酸丁酯、二氧六环、N-甲基吡咯烷酮、甲醇、四氢呋喃中的一种或几种。4.根据权利要求2所述的一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版,其特征在于,所述的含硅乙烯基醚具有如下通式: 5.根据权利要求3所述的一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版,其特征在于,所述的侧链上含有羧基的线性酚醛树脂的通式为: 6.根据权利要求3所述的一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版,其特征在于,所述的产酸剂为鎗盐类、芳茂铁类、硫酸肟盐类和三嗪类产酸剂中的一种或几种,其中: I)所述的鎗盐类的通式为:(ArnY)T其中Ar为芳香基团;Y为S或I ;X为SbF6' AsF6, PF6、BF4或CF3SO3 ;n为2或3 ; 2)所述的芳茂铁类的通式为: 7.根据权利要求3所述的一种具有单层含硅乙...

【专利技术属性】
技术研发人员:邹应全汪建国
申请(专利权)人:北京师范大学
类型:发明
国别省市:北京;11

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