用于测试沉积过程的掩膜组件、沉积装置和测试方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于测试沉积过程的掩膜组件、沉积装置和测试方法。所述沉积装置包括沉积源、沉积室、掩膜组件和传送单元。所述掩膜组件包括支撑构件、遮挡构件和驱动构件。所述支撑构件具有被构造为在支撑基底基板的同时允许沉积材料经过的第一开口，所经过的沉积材料被沉积在所述基底基板上。所述遮挡构件被容纳在所述支撑构件中，并且具有比所述第一开口小的第二开口。所述驱动构件被构造为根据所述掩膜组件的移动来改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。

【技术实现步骤摘要】
用于测试沉积过程的掩膜组件、沉积装置和测试方法相关申请的交叉引用本申请要求于2012年9月4日递交到韩国知识产权局的韩国专利申请第10-2012-0097799号的优先权和权益，其全部内容通过引用合并于此。
本专利技术的各实施例的各方面涉及一种用于测试沉积过程的掩膜组件、包括掩膜组件的沉积装置和使用掩膜组件用于沉积过程的测试方法。
技术介绍
通过在基底基板上沉积有机材料或无机材料可制造平板显示器或半导体器件。为此目的，沉积过程可在沉积装置中执行。沉积装置可包括真空室、在真空室中的至少一个沉积源、掩膜和传送基底基板的传送单元。可执行沉积过程的测试，以便在执行沉积过程来制造平板显示器或半导体器件之前确定沉积过程（如在沉积装置中执行）是否适合。测试基板可被用于测试该沉积过程。例如，作为测试沉积过程的一部分，可测量在测试基板上沉积的材料的厚度和均匀度。为此目的，测量到的厚度和均匀度可与参考厚度和均匀度进行比较。当测试用于具有多个沉积源的沉积装置的沉积过程时，每个沉积源用于沉积不同的材料，可需要多个测试基板。例如，测试基板可被顺序地装载到沉积装置中，并且不同的材料被分别沉积在不同的测试基板上。可随后测量沉积在相应测试基板上的每种沉积材料厚度和均匀度。
技术实现思路
本专利技术的各实施例提供一种能够通过使用用于多个沉积源的一个测试基板进行测试过程的掩膜组件。进一步的实施例提供一种包括掩膜组件的沉积装置，以及使用掩膜组件用于沉积过程的测试方法。根据本专利技术示例性实施例，提供一种用于测试沉积过程的掩膜组件。该掩膜组件包括：支撑构件，具有被构造为允许沉积材料经过的第一开口，同时支撑基底基板，所经过的沉积材料所述掩膜组件沿第一方向移动的同被时沉积在所述基底基板上；遮挡构件，被容纳在所述支撑构件中，并且具有比所述第一开口小的第二开口；和驱动构件，被构造为根据所述掩膜组件的移动来移动所述遮挡构件，以便改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。所述支撑构件可包括：具有所述第一开口的底部部分，和从所述底部部分弯曲以便支撑所述基底基板的侧壁。所述遮挡构件可被构造为根据所述掩膜组件的移动沿与所述第一方向相反的方向相对于所述基底基板移动。所述第二开口可沿与所述第一方向基本垂直的第二方向延伸。所述遮挡构件可具有比所述第一开口大的面积，并且可位于所述底部部分上。所述掩膜组件可进一步包括：位于所述底部部分上的轨道单元；和联接单元，被联接到所述遮挡构件并且被插入所述轨道单元中，以便允许所述遮挡构件沿所述轨道单元移动。所述驱动构件可被构造为根据所述掩膜组件的移动而旋转。所述遮挡构件可被构造为根据所述驱动构件的旋转而移动。所述驱动构件可包括被构造为因摩擦力而旋转的第一小齿轮。所述驱动构件可进一步包括第二小齿轮，该第二小齿轮被构造为从所述第一小齿轮接收动力并且接触所述遮挡构件的侧表面。所述遮挡构件可包括锯齿，该锯齿在所述遮挡构件的所述侧表面上并且被构造为啮合所述第二小齿轮的锯齿。所述驱动构件可包括交替设置的N极部分和S极部分，并且可被构造为被因磁力而旋转。根据本专利技术另一示例性实施例，提供一种用于测试沉积过程的掩膜组件。该掩膜组件包括支撑构件，具有被构造为允许沉积材料经过的第一开口，同时支撑基底基板，所经过的沉积材料在所述掩膜组件移动的同时被沉积在所述基底基板上；遮挡构件，被容纳在所述支撑构件中，并且包括具有比所述第一开口小的第二开口的可旋转构件；和驱动构件，被构造为根据所述掩膜组件的移动来旋转所述可旋转构件，以便改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。所述支撑构件可包括具有所述第一开口的底部部分和从所述底部部分弯曲以便支撑所述基底基板的侧壁。所述遮挡构件可进一步包括被联接到所述可旋转构件以便旋转所述可旋转构件的旋转轴。所述第一开口可包括左第一开口和右第一开口。所述遮挡构件可包括与所述左第一开口重叠的左遮挡构件和与所述右第一开口重叠的右遮挡构件。所述驱动构件可包括第一驱动构件和第二驱动构件，所述第一驱动构件被构造为沿第一方向旋转，所述第二驱动构件被构造为根据所述支撑构件的移动沿与所述第一方向相反的第二方向旋转。所述左遮挡构件的可旋转构件的第二开口相对于所述基底基板的位置可被构造为因所述第一驱动构件的旋转而改变。所述右遮挡构件的可旋转构件的第二开口相对于所述基底基板的位置可被构造为因所述第二驱动构件的旋转而改变。所述第一驱动构件和所述第二驱动构件中的每个驱动构件可包括被构造为因摩擦力而旋转的第一小齿轮。所述第一驱动构件和所述第二驱动构件中的每个驱动构件可进一步包括第二小齿轮，该第二小齿轮被构造为从所述第一小齿轮接收动力并且接触所述遮挡构件的侧表面。所述第一驱动构件和所述第二驱动构件中的每个驱动构件可包括铁饼形的磁性构件，该铁饼形的磁性构件包括交替设置的N极部分和S极部分。所述磁性构件可被构造为因磁力而旋转。根据本专利技术又一示例性实施例，提供一种沉积装置。该沉积装置包括：被构造为使沉积材料沉积的多个沉积源；容纳所述多个沉积源的沉积室；用于测试沉积过程的掩膜组件，该掩膜组件被构造为联接到基底基板同时移动通过所述沉积室，同时所述沉积源将所述沉积材料沉积在所述基底基板上；和传送单元，被构造为将所述掩膜组件移动通过所述沉积室。所述掩膜组件包括：支撑构件，具有被构造为允许沉积材料经过的第一开口，同时支撑基底基板，所经过的沉积材料被沉积在所述基底基板上；遮挡构件，被容纳在所述支撑构件中，并且具有比所述第一开口小的第二开口；和驱动构件，被构造为根据所述掩膜组件的移动来改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。所述传送单元可包括被构造为将所述掩膜组件移动通过所述沉积室的多个辊子。所述驱动构件可被构造为根据所述掩膜组件的移动而旋转。所述第二开口相对于所述基底基板的位置可被构造为因所述驱动构件的旋转而改变。所述沉积室可包括：装载区，被构造为将所述基底基板联接到所述掩膜组件；沉积区，所述多个沉积源被容纳在该沉积区中；和卸载区，被构造为将所述基底基板与所述掩膜组件分离。所述驱动构件可包括多个小齿轮。所述多个小齿轮中的一个小齿轮可被构造为接触所述遮挡构件的侧表面，以便改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。所述沉积室可包括在所述沉积区域的侧壁上的多个传送架，以便对应于所述多个沉积源或者对应于所述多个沉积源之间的空间。所述多个小齿轮中的另一个小齿轮可被构造为接触所述多个传送架，以便改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。所述沉积装置可进一步包括：返回单元，该返回单元被构造为将所述掩膜组件从所述卸载区返回到所述装载区；和容纳所述返回单元的返回室。所述返回室可包括在所述返回室的侧壁上的返回架。所述驱动构件可包括铁饼形磁性构件，该铁饼形磁性构件包括交替设置的N极部分和S极部分。所述沉积室可包括在与所述多个沉积源对应的所述沉积区的侧壁上的多个磁性传送构件，每个磁性传送构件包括交替设置的N极部分和S极部分。所述支撑构件可包括具有所述第一开口的底部部分和从所述底部部分弯曲以便支撑所述基底基板的侧壁。所述遮挡构件可被构造为根据所述掩膜组件的移动沿与所述掩膜组件移动的方向相反的方向相对于所述基底基板移动。所述遮挡构件可包括被构造为因所述掩膜组件的移动而旋转的可旋转构件。根据本专利技术再一示例性实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于测试沉积过程的掩膜组件，包括：支撑构件，具有被构造为允许沉积材料经过的第一开口，同时支撑基底基板，所经过的沉积材料在所述掩膜组件沿第一方向移动的同时被沉积在所述基底基板上；遮挡构件，被容纳在所述支撑构件中，并且具有比所述第一开口小的第二开口；和驱动构件，被构造为根据所述掩膜组件的移动来移动所述遮挡构件，以便改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。

【技术特征摘要】
2012.09.04 KR 10-2012-00977991.一种用于测试沉积过程的掩膜组件，包括：支撑构件，具有被构造为允许沉积材料经过的第一开口，所述支撑构件支撑基底基板，所经过的沉积材料在所述支撑构件沿第一方向移动的同时被沉积在所述基底基板上；遮挡构件，被容纳在所述支撑构件中，并且具有比所述第一开口小的第二开口；和驱动构件，被构造为响应所述支撑构件的移动而旋转，并使所述遮挡构件响应所述驱动构件的旋转而相对于所述基底基板移动，其中，所述基底基板相对于所述支撑构件不移动。2.如权利要求1所述的掩膜组件，其中所述支撑构件包括：具有所述第一开口的底部部分；和从所述底部部分弯曲以便支撑所述基底基板的侧壁。3.如权利要求2所述的掩膜组件，其中所述遮挡构件被构造为根据所述掩膜组件的移动沿与所述第一方向相反的方向相对于所述基底基板移动。4.如权利要求3所述的掩膜组件，其中所述第二开口沿与所述第一方向基本垂直的第二方向延伸。5.如权利要求2所述的掩膜组件，其中所述遮挡构件具有比所述第一开口大的面积，并且位于所述底部部分上。6.如权利要求2所述的掩膜组件，进一步包括：位于所述底部部分上的轨道单元；和联接单元，被联接到所述遮挡构件并且被插入所述轨道单元中，以便允许所述遮挡构件沿所述轨道单元移动。7.如权利要求1所述的掩膜组件，其中所述驱动构件被构造为根据所述掩膜组件的移动而旋转，并且所述遮挡构件被构造为根据所述驱动构件的旋转而移动。8.如权利要求7所述的掩膜组件，其中所述驱动构件包括被构造为因摩擦力而旋转的第一小齿轮。9.如权利要求8所述的掩膜组件，其中所述驱动构件进一步包括第二小齿轮，该第二小齿轮被构造为从所述第一小齿轮接收动力并且接触所述遮挡构件的侧表面。10.如权利要求9所述的掩膜组件，其中所述遮挡构件包括锯齿，该锯齿在所述遮挡构件的所述侧表面上并且被构造为啮合所述第二小齿轮的锯齿。11.如权利要求7所述的掩膜组件，其中所述驱动构件包括交替设置的N极部分和S极部分，并且被构造为因磁力而旋转。12.一种用于测试沉积过程的掩膜组件，包括：支撑构件，具有被构造为允许沉积材料经过的第一开口，同时支撑基底基板，所经过的沉积材料在所述支撑构件移动的同时被沉积在所述基底基板上；遮挡构件，被容纳在所述支撑构件中，并且包括具有比所述第一开口小的第二开口的可旋转构件；和驱动构件，被构造为根据所述支撑构件的移动来旋转所述可旋转构件，以便改变所述第二开口相对于所述基底基板的位置。13.如权利要求12所述的掩膜组件，其中所述支撑构件包括：具有所述第一开口的底部部分；和从所述底部部分弯曲以便支撑所述基底基板的侧壁。14.如权利要求12所述的掩膜组件，其中所述遮挡构件进一步包括被联接到所述可旋转构件以便旋转所述可旋转构件的旋转轴。15.如权利要求14所述的掩膜组件，其中所述第一开口包括左第一开口和右第一开口，并且所述遮挡构件包括与所述左第一开口重叠的左遮挡构件和与所述右第一开口重叠的右遮挡构件。16.如权利要求15所述的掩膜组件，其中所述驱动构件包括第一驱动构件和第二驱动构件，所述第一驱动构件被构造为沿第一方向旋转，所述第二驱动构件被构造为根据所述支撑构件的移动沿与所述第一方向相反的第二方向旋转，所述左遮挡构件的可旋转构件的第二开口相对于所述基底基板的位置被构造为因所述第一驱动构件的旋转而改变，并且所述右遮挡构件的可旋转构件的第二开口相对于所述基底基板的位置被构造为因所述第二驱动构件的旋转而改变。17.如权利要求16所述的掩膜组件，其中所述第一驱动构件和所述第二驱动构件中的每个驱动构件包括被构造为因摩擦力而旋转的第一小齿轮。18.如权利要求17所述的掩膜组件，其中所述第一驱动构件和所述第二驱动构件中的每个驱动构件进一步包括第二小齿轮，该第二小齿轮被构造为从所述第一小齿轮接收动力并且接触所述遮挡构件的侧表面。19.如权利要求16所述的掩膜组件，其中所述第一驱动构件和所述第二驱动构件中的每个驱动构件包括铁饼形的磁性构件，该铁饼形的磁性构件包括交替设置的N极部分和S极部分，并且所述磁性构件被构造为...

【专利技术属性】
技术研发人员：金珉镐，车裕敏，朴锡焕，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：