基板清洁装置制造方法及图纸

提供一种基板清洁装置。该基板清洁装置包括用于传送基板的多个传送滚筒；将液体化学物供应到所述基板的第一表面的液体化学物供给器；其中所述液体化学物供给器包括壳体和清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述壳体内并且具有被配置为接触所述基板的上部分。

【技术实现步骤摘要】
基板清洁装置
[0001 ] 本公开涉及基板清洁装置。
技术介绍
在显示设备中，平坦且薄的平板显示器包括液晶显示器(IXD)、等离子显示设备、有机发光二极管(OLED)显示器等。平板显示器包括用于显示图像的显示面板，并且为了制造显示面板，执行各种过程，例如蚀刻过程、清洁过程等。清洁过程不是现实中制造设备的单一过程，但它影响过程产出和产品性能。在该
技术介绍
部分中公开的上述信息仅为了增强对本专利技术背景的理解，因此其可能包含不形成对于本国本领域普通技术人员来说已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本专利技术努力提供一种基板清洁装置，其具有在清洁基板的下表面时防止液体化学物喷溅到基板的上部分的优点。本专利技术的实施例提供一种基板清洁装置，包括:用于传送基板的多个传送滚筒；将液体化学物供应到所述基板的第一表面的液体化学物供给器；其中所述液体化学物供给器包括:壳体；和清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述壳体内并且具有被配置为与所述基板的上部分接触。所述基板清洁装置可进一步包括:纯净水供给器，用于将纯净水供应到所述基板的所述第一表面，被配置为去除被供应到所述第一表面的所述液体化学物，其中所述纯净水供给器包括:壳体；和清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述纯净水供给器的所述壳体内并且具有被配置为与所述基板的上部分接触。所述基板清洁装置可进一步包括:空气供应单元，安装在所述基板的第二表面的上部分上，以便防止所述液体化学物喷溅到所述基板的所述第二表面。在一实施方式中，所述基板清洁装置可进一步包括:空气供应单元，安装在所述基板的上表面的上部分上，以便防止所述液体化学物和所述纯净水喷溅到所述基板的所述上表面。所述液体化学物供给器和所述纯净水供给器中的每一个可进一步包括:将液体供应到所述壳体的内部的泵；和存储被供应到所述壳体的内部的液体的液体存储罐；其中所述清洁滚筒的一部分浸入被供应到所述壳体的内部的所述液体中。所述清洁滚筒可包括圆柱形主体和位于所述圆柱形主体的外圆周表面的多个刷子。所述基板清洁装置可进一步包括:喷溅防止构件，布置为与在比所述清洁滚筒的旋转中心轴线高的位置处所述清洁滚筒相邻，以便当用大量液体浸溃的所述清洁滚筒旋转时防止液体沿所述壳体的向上方向喷溅。所述喷溅防止构件可被定位为低于所述基板并且高于所述清洁滚筒的所述旋转中心轴线。所述喷溅防止构件可为被布置为与所述旋转中心轴线平行的管。所述喷溅防止构件可被形成为在所述清洁滚筒的上部分的两侧的一对喷溅防止构件。所述壳体的长度方向可为所述清洁滚筒的轴线延伸的方向，并且当所述清洁滚筒的所述轴线延伸的方向垂直于所述基板的传送方向时，平行于所述基板的所述传送方向的所述壳体的宽度可长于所述清洁滚筒的直径。所述基板清洁装置可进一步包括位于所述壳体的上表面上的盖，所述盖被配置为防止所述液体随着所述清洁滚筒的旋转而被喷溅。所述喷溅防止盖可被形成为在所述清洁滚筒的两侧的一对喷溅防止盖，并且所述清洁滚筒的上端部分可伸出到所述一对喷溅防止盖之间的开口。所述空气供应单元可包括一对气刀，并且所述一对气刀位于所述液体化学物供给器和所述纯净水供给器中的每一个的上方。当沿所述基板的所述传送方向观看时，所述一对气刀可位于所述清洁滚筒的前侧和后侧。在所述一对气刀中，位于所述前侧的气刀可向所述后侧倾斜，并且位于所述后侧的气刀可向所述前侧倾斜。当沿所述基板的所述传送方向观看时，所述纯净水供给器可位于所述液体化学物供给器的后侧。所述纯净水供给器的数量为多个。所述基板清洁装置可进一步包括与所述液体化学物供给器的所述壳体和/或所述纯净水供给器的所述壳体分隔开且当沿所述基板的所述传送方向观看时在所述液体化学物供给器的所述壳体和/或所述纯净水供给器的所述壳体前方的基板移动传感器。当所述基板移动传感器检测到所述基板进入所述液体化学物供给器的所述壳体和/或所述纯净水供给器的所述壳体的上侧以及从所述液体化学物供给器的所述壳体和/或所述纯净水供给器的所述壳体的所述上侧离开时，所述清洁滚筒的速度可被可变地控制。当沿所述基板的所述传送方向观看时，所述基板的前端部分移动经过所述基板移动传感器到达所述清洁滚筒的上部分的速度以及所述基板的后端部分移动经过所述基板移动传感器到达所述清洁滚筒的所述上部分的速度可低于所述基板的中心部分移动经过所述清洁滚筒的上部分的速度。【附图说明】图1为例示根据本专利技术的实施例的基板清洁装置的视图。图2为根据本专利技术的实施例的基板清洁装置的清洁单元的壳体的剖视图。图3为例示根据本专利技术的实施例的基板清洁装置的清洁单元的操作状态的剖视图。图4为例示根据本专利技术的实施例基板进入基板清洁装置的清洁单元的操作状态的视图。图5为例示根据本专利技术的实施例基板从基板清洁装置的清洁单元释放的操作状态的视图。【具体实施方式】下文中，将参照附图详细描述实施例，使得它们能够被本专利技术所属领域的技术人员容易地实践。如本领域技术人员将认识的那样，描述的实施例可以以各种方式被修改，而不脱离本专利技术的精神或范围。附图和说明将被认为本质上是例示性的而非限制性的。相似的附图标记在整个说明书中通常指代相似的元件。为了清洁平板显示器的基板的下表面，纯净水或液体化学物典型地被喷嘴供应并且通过使用刷子被去除，以此方式，基板的上下表面被同时清洁。然而，由于传统的清洁装置典型地通过喷头供应纯净水和液体化学物，液体化学物被喷溅到基板的上表面，而在很多情况下，显示元件位于基板的上表面上。在根据本专利技术的实施例的基板清洁装置的情况下，由于液体化学物和纯净水通过使用刷子被应用到基板上以便清洁基板的下表面，因此能够防止液体化学物被喷溅到基板的定位有显示元件的上表面，同时基板的下表面被清洁。图1为例示根据本专利技术的实施例的基板清洁装置的视图。参见图1，根据本专利技术的实施例的基板清洁装置I可包括传送滚筒40、清洁单元30和空气供应单元50。如图1中所例示，传送滚筒40，即用于传送基板2的部件，可包括安装在框架4上的多个滚筒。多个传送滚筒40可在水平方向上以等间距设置。多个传送滚筒40中的每一个的旋转速度可由电机(未示出)调节，从而调节基板2的传送速度。在本专利技术的实施例中，下面描述基板清洁装置I。在图1的实施例中，装置I具有这样的结构:基板2被从第一侧(例如，从图1观看时的左侧)引入，当其被传送到与第一侧相反的第二侧(例如，右侧)时其被清洁。然后，显示(未示出)元件位于基板2的上表面上。为了清洁基板2的下表面，当基板2通过经过多个传送滚筒40而被传送时，根据本专利技术实施例的基板清洁装置I包括清洁单元30和空气供应单元50。在本专利技术的实施例中，清洁单元30包括将液体化学物供应到基板2的下表面的液体化学物供给器30a以及供应纯净水以便将已经被供应到基板的液体化学物去除的第一至第三纯净水供给器30b、30c和30d。参见图1，当沿基板2的传送方向观看时液体化学物供给器30a位于第一至第三纯净水供给器30b、30c和30d前方的前侧(也就是，图1中的左侧)，纯净水供给器30b、30c和30d被布置在液体化学物供给器30a的后侧。参见图1，在本专利技术的实施例中，三个纯净水供给器30b、30c和30d被安装，但纯净水供给器的数量不限于此。在本专利技术的实施例中，存储在液体化学物存储罐10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洁装置，包括：用于传送基板的多个传送滚筒；将液体化学物供应到所述基板的第一表面的液体化学物供给器；其中所述液体化学物供给器包括：壳体；和清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述壳体内并且具有被配置为与所述基板接触的上部分。

【技术特征摘要】
2012.09.20 KR 10-2012-01045651.一种基板清洁装置，包括: 用于传送基板的多个传送滚筒； 将液体化学物供应到所述基板的第一表面的液体化学物供给器； 其中所述液体化学物供给器包括: 壳体；和 清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述壳体内并且具有被配置为与所述基板接触的上部分。2.根据权利要求1所述的基板清洁装置，进一步包括: 纯净水供给器，用于将纯净水供应到所述基板的所述第一表面，被配置为去除被供应到所述第一表面的所述液体化学物的至少一部分， 其中所述纯净水供给器包括: 壳体；和 清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述纯净水供给器的所述壳体内并且具有被配置为与所述基板接触的上部分。3.根据权利要求1所述的基板清洁装置，进一步包括: 空气供应单元，安装在所述基板的第二表面的上部分上，以便防止所述液体化学物喷溅到所述基板的所述第二表面。`4.根据权利要求2所述的基板清洁装置，进一步包括: 空气供应单元，安装在所述基板的上表面的上部分上，以便防止所述液体化学物和所述纯净水喷溅到所述基板的所述上表面。5.根据权利要求2所述的基板清洁装置，其中所述液体化学物供给器和所述纯净水供给器中的每一个进一步包括: 将液体供应到所述壳体的内部的泵；和 存储被供应到所述壳体的内部的液体的液体存储罐； 其中所述清洁滚筒的一部分浸入被供应到所述壳体的内部的所述液体中。6.根据权利要求3所述的基板清洁装置，其中所述清洁滚筒包括圆柱形主体和位于所述圆柱形主体的外圆周表面的多个刷子。7.根据权利要求3所述的基板清洁装置，进一步包括: 喷溅防止构件，布置为在比所述清洁滚筒的旋转中心轴线高的位置处与所述清洁滚筒相邻，以便当用大量液体浸溃的所述清洁滚筒旋转时防止液体沿所述壳体的向上方向喷溅。8.根据权利要求7所述的基板清洁装置，其中所述喷溅防止构件被定位为低于所述基板并且高于所述清洁滚筒的所述旋转中心轴线。9.根据权利要求7所述的基板清洁装置，其中所述喷溅防止构件为被布置为与所述旋转中心轴线平行的管。10.根据权利要求7所述的基板清洁装置，其中所述喷溅防止构件被形成为在所述清洁滚筒的上部分的两侧的一对喷溅防止构件。11.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：李承俊，柳廷和，韩苏拉，申东明，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：