放射线治疗计划装置制造方法及图纸

技术编号:9815644 阅读:146 留言:0更新日期:2014-03-29 06:35
本发明专利技术提供一种放射线治疗计划装置,根据操作者设定的关于照射方向、处方剂量等的条件,缩短通过反复计算来计算最佳的照射条件时的计算时间。根据照射到点的射束的轴与计算点之间的距离,将从照射到照射位置的射束向计算点的关于放射剂量的贡献,即放射剂量阵列A、B分割为照射至各点的射束向相距射束轴的距离为L以下的目标区域内的计算点的放射剂量阵列AM、BM,和向相距射束轴的距离比L大的目标区域内的计算点的放射剂量阵列AS、BS,同时在进行反复计算时,将包含放射剂量阵列AS、BS的看作常数。此外,在满足更新条件的情况下,使用在该时刻计算出的点照射量和放射剂量阵列A、B的值,对目标函数进行再计算并进行更新。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种放射线治疗计划装置,其生成用于照射放射线来进行治疗的治疗计划,所述放射线治疗计划装置的特征在于,具备:输入装置,其输入应该对照射的放射线进行控制的特定区域、操作者决定的照射条件、其他必要信息;存储装置,其存储通过该输入装置输入的所述特定区域的位置信息、所述操作者决定的照射条件、其他必要信息;运算装置,其根据所述存储装置中存储的所述特定区域的位置信息、所述操作者决定的照射条件,设定目标函数,并进行反复计算,由此计算使所述目标函数的值达到最小的照射参数,其中,所述运算装置在所述特定区域内设定多个照射位置和多个计算点,根据照射到各照射位置的射束的射束轴与所述多个计算点的每一个之间的距离,将从所述照射到各照射位置的射束向所述多个计算点的关于放射剂量的贡献分割为包含射束轴附近成分和射束轴远处成分的至少2个成分的多个成分,来设定所述目标函数,并且,在进行所述反复计算时,将所述多个成分中的所述射束轴远处成分看作常数,仅在满足预先设定的更新条件的情况下,包含所述射束轴远处成分地使用在该时刻的照射参数再计算对所述多个计算点赋予的放射剂量,并运算目标函数。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:平山嵩佑藤本林太郎长峰嘉彦
申请(专利权)人:株式会社日立制作所
类型:发明
国别省市:

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