电磁传感器及其校准制造技术
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电磁传感器及其校准
本专利技术的实施方式涉及监测金属靶微观结构的装置和方法。特别是，虽然不排它地，本专利技术的一些实施方式涉及校准电磁传感器的装置和方法。特别是，虽然不排它地，本专利技术的一些实施方式涉及对金属靶的微观结构信息的监测。背景诸如钢的金属的生产过程中，受控冷却紧跟在金属轧制之后。生产过程期间，尤其是冷却过程，金属的微观结构演变并导致被加工的金属的最终微观结构。被加工的金属的微观结构对金属特性的许多方面都有影响，例如对拉伸强度有影响。传统的微观结构分析技术是破坏性的，并且涉及从例如被加工的材料的线圈的端部去除用于分析的样本。这耗时间，高成本，不允许连续监测，并且只评估被加工的材料的一小部分。当被加工的材料是钢时，据知电磁技术可以通过检测由于钢中电导率和磁导率的变化引起的铁磁相位改变来监测钢相位转变。而且，如果线圈被放置在正被加工的钢的附近，这导致线圈阻抗测量的变化，因为电导率和磁导率受钢的微观结构的影响。例如奥氏体，高温下稳定阶段的铁，是顺磁性的，而稳定低温相位铁素体、珠光体、贝氏体和马氏体是铁磁性的，低于约760℃的居里温度。钢的性能随着这些相位的...
【技术保护点】
一种电磁传感器（400），其用于检测金属靶的微观结构，所述电磁传感器包括：磁性装置（410、420），其用于提供励磁磁场；磁力计（430），其用于检测在金属靶中引起的合成磁场；和校准电路（450、551、552、553、554），其用于生成校准磁场来校准所述电磁传感器，其中所述校准参考磁场是由所述励磁磁场在所述校准电路中引起的电流产生的。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.04.27 GB 1107064.61.一种电磁传感器(400)，其用于检测金属靶的微观结构，所述电磁传感器包括：磁性装置，其用于提供励磁磁场；磁力计(430)，其用于检测在金属靶中引起的合成磁场；和校准电路(450、551、552、553、554)，其用于生成校准磁场来校准所述电磁传感器，其中所述校准磁场是由所述励磁磁场在所述校准电路中引起的电流产生的，所述校准磁场用来模拟正贴近所述电磁传感器出现的金属靶的影响。2.如权利要求1所述的电磁传感器，包括多个校准电路(450、551、552、553、554)。3.如权利要求2所述的电磁传感器，其中所述多个校准电路(450、551、552、553、554)中的每个校准电路被布置成在相应的频率范围产生所述校准磁场。4.如权利要求1-3中的任一项所述的电磁传感器，其中每个校准电路(450、551、552、553、554)包括相应的阻抗(453)。5.如权利要求1所述的电磁传感器，其中所述校准电路包括校准线圈(451)。6.如权利要求2或3所述的电磁传感器，其中所述多个校准电路(450、551、552、553、554)中的一个或多个包括校准线圈(451)。7.如权利要求1-3中的任一项所述的电磁传感器，其包括控制装置(452)，用于选择性地控制所述校准磁场的产生。8.如权利要求1-3中的任一项所述的电磁传感器，其中所述磁力计(430)是感应检测器线圈或霍尔传感器。9.如权利要求1-3中的任一项所述的电磁传感器，其包括磁芯(410)。10.如权利要求9所述的电磁传感器，其中所述磁芯(410)是U型的或H型的。11.如权利要求9所述的电磁传感器，其中所述磁力计(430)被布置为贴近所述磁芯(410)的磁极。12.如权利要求10所述的电磁传感器，其中所述磁力计(430)被布置为贴近所述磁芯(410)的磁极。13.如权利要求1-3中的任一项所述的电磁传感器，其中所述磁性装置包括一个或多个励磁线圈。14.如权利要求1-3中的任一项所述的电磁传感器，包括：控制单元(600、610)，其被布置为确定校准周期(820)，并在所述校准周期期间选择性地激活校准电路。15.如权利要求14所述的电磁传感器，其中所述控制单元(600、610)被布置为基于从所述磁力计(430)输出的检测信号，确定所述校准周期(820)。16.如权利要求14所述的电磁传感器，其中所述控制单元(600、610)被布置为基于从所述磁力计(430)输出的检测信号和预定的参考电平，确定校准周期。17.如权利要求15所述的电磁...
【专利技术属性】
技术研发人员：安东尼·约瑟夫·佩顿，尹武良，斯蒂芬·约翰·迪金森，
申请(专利权)人：曼彻斯特大学，
类型：
国别省市：
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