【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于混合蒸发的前体和气体以制造二氧化硅玻璃的方法和设备相关申请交叉参考本申请根据35U.S.C.§ 120要求2011年7月6日提交的美国申请系列13/176，804的优先权，本文以该申请为基础并将其全文通过引用结合于此。背景本专利技术一般的涉及前体和气体混合单元，以及更具体的涉及用于混合蒸发的前体和气体以制备热解生成二氧化硅颗粒的一种设备，该二氧化硅颗粒可用于制备熔融二氧化硅和光纤预制件。常规光纤预制件通常包括二氧化硅颗粒。不含卤化物的环硅氧烷，例如八甲基环四硅氧烷(octamethylcyclotetracyloxane) (0MCTS)常用作制备热解生成二氧化娃颗粒的前体，所述二氧化硅颗粒可用于制备熔融二氧化硅和光纤预制件。所述前体通常是液体，在蒸发器中蒸发，且以流的形式通过递送管流动，从而在下游的混合单元中与氧结合。然后，将前体和氧的混合物加料至燃烧器，所述混合物在燃烧器中有火焰存在的情况下进行高温氧化反应，以形成二氧化硅颗粒。在所述氧和所述前体混合的汇合点，该前体(包括杂质如高分子量的硅氧烷、非挥发性残留物、胺、硅烷、酸(如HCL)和碱(Na0H，K0H)...
【技术保护点】
一种用于形成二氧化硅烟炱的方法，所述方法包括以下步骤：提供一种设备，所述设备包括混合器外壳，具有与该混合器外壳连通的出料口的前体递送室，具有与该混合器外壳连通的出料口的氧化气体递送室，以及布置在该混合器外壳中、位于所述前体递送室的出料口和所述氧化气体递送室的出料口之间的回火元件，其中所述回火元件以L最小(厘米)=0.453U(Re)?0.5567限定的离所述氧化气体递送室出料口的最小间距设置，式中U是前体的流速，单位为厘米/秒，Re是流动雷诺数；在该混合器外壳中通过前体递送室来递送蒸发的前体；通过所述氧化气体递送室来递送待与所述蒸发的前体混合的氧化气体，从而所述蒸发的前体和...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.07.06 US 13/176,8041.一种用于形成二氧化硅烟炱的方法，所述方法包括以下步骤:提供一种设备，所述设备包括混合器外壳，具有与该混合器外壳连通的出料口的前体递送室，具有与该混合器外壳连通的出料口的氧化气体递送室，以及布置在该混合器外壳中、位于所述前体递送室的出料口和所述氧化气体递送室的出料口之间的回火元件，其中所述回火元件以L.、(厘米)=0.453U(Re)-°.5567限定的离所述氧化气体递送室出料口的最小间距设置，式中U是前体的流速，单位为厘米/秒，Re是流动雷诺数；在该混合器外壳中通过前体递送室来递送蒸发的前体；通过所述氧化气体递送室来递送待与所述蒸发的前体混合的氧化气体，从而所述蒸发的前体和所述氧化气体在所述混合器外壳中混合；以及将所述混合的蒸发的前体和氧化气体作为流输出到燃烧器，以形成二氧化硅烟炱。2.如权利要求1所述方法，其中，所述方法还包括将所述二氧化硅烟炱沉积到基底上，以形成光纤预制件。UpD3.如权利要求1所述的方法，其中，所述流动雷诺数由Y限定，式中P是气Re = 1-1体密度，D是所述回火元件与氧化气体递送室之间的间距，以及μ是前体的气体粘度。4.如权利要求1所述的方法，其中，所述最小间距L*为至少2厘米。5.如权利要求1所述的 方 法，其中，所述回火元件在至少一侧包括倾斜的表面以减少气体的再循环。6.如权利要求5所述的方法，其中，所述前体递送室和所述氧化气体递送室之间的第一间距和所述回火元件和所述氧化气体递送室之间的第二间距的比例大于3。7.如权利要求1所述的方法，其中，所述前体包括不含卤化物的环硅氧烷。8.一种用于形成二氧化硅烟炱的方法，所述方法包括以下步骤:提供一种设备，所述设备包括混合器外壳，具有与该混合器外壳连通的出料口的前体递送室，具有与该混合器外壳连通的出料口的氧化气体递送室，以及布置在该混合器外壳中、位于所述前体递送室的出料口和所述氧化气体递送室的出料口之间的回火元件，其中所述回火元件在至少一侧包括倾斜的表面以减少蒸发的气体的再循环；在该混合器外壳中通过前体递送室来递送蒸发的前体；通过所述氧化气体递送室来递送待与所述蒸发的前体混合的氧化气体，...
【专利技术属性】
技术研发人员：L·A·伯恩斯坦，D·C·布克宾德，J·A·迪拉德，J·L·波特，B·苏曼，P·坦登，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：
国别省市：
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