【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】醇化合物及其制造方法、内酯化合物的制造方法、(甲基)丙烯酸酯及其制造方法、聚合物及其制造方法、抗蚀剂组合物及利用其的基板的制造方法
本专利技术涉及作为聚合性单体有用的(甲基)丙烯酸酯及其制造方法,作为(甲基)丙烯酸酯的中间体有用的内酯化合物、醇化合物及其制造方法,使用了该(甲基)丙烯酸酯的聚合物及其制造方法,含有该聚合物的抗蚀剂组合物,使用了该抗蚀剂组合物的基板的制造方法,以及新型 的(甲基)丙烯酸酯及利用其的聚合物。本申请基于2011年6月14日在日本申请的日本特愿2011-132183号和2011年9月27日在日本申请的日本特愿2011-210667号要求优先权,并将其内容援引于此。
技术介绍
近年来,在半导体元件、液晶元件的制造中的微细加工的领域中,随着光刻技术的进步,微细化正在迅速发展。作为该微细化的方法,一般采用照射光的短波长化,具体而言,照射光从以往的以g射线(波长:438nm)、i射线(波长:365nm)为代表的紫外线向DUV(De印Ultra Violet,深紫外线)逐渐变化。目前,KrF准分子激光(波长:248nm)光刻技术被导入市场,正在试图导入实现了更短波长化的ArF准分子激光(波长:193nm)光刻技术。进而,作为新一代的技术,正在研究F2准分子激光(波长:157nm)光刻技术。另外,作为与这些稍有不同的类型的光刻技术,对于使用电子束光刻技术、波长13.5nm附近的极端紫外光(ExtremeUltra Violet light:EUV光)的EUV光刻技术也正在深入研究。作为对这样的短波长的照射光或电子束为高分辨率的抗蚀剂,提 ...
【技术保护点】
一种醇化合物的制造方法,其特征在于,是制造下述通式(D)表示的醇化合物的方法,具有硼氢化反应工序和酸处理工序,所述硼氢化反应工序是在溶剂中使下述通式(C)表示的化合物与选自乙硼烷和硼烷配位化合物中的硼化剂反应而得到反应液,所述酸处理工序是将该反应液进行过氧化氢处理后,加入酸而使得pH为0.5~4;式中,A1~A6各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基,X表示氧原子、硫原子、亚甲基、或亚乙基。FDA0000436166750000011.jpg
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.14 JP 2011-132183;2011.09.27 JP 2011-21061.一种醇化合物的制造方法,其特征在于,是制造下述通式(D)表示的醇化合物的方法, 具有硼氢化反应工序和酸处理工序,所述硼氢化反应工序是在溶剂中使下述通式(C)表示的化合物与选自乙硼烷和硼烷配位化合物中的硼化剂反应而得到反应液,所述酸处理工序是将该反应液进行过氧化氢处理后,加入酸而使得pH为0.5~4 ; 2.根据权利要求1所述的醇化合物的制造方法,其中,作为所述硼化剂,使用硼烷-二甲基硫醚配位化合物或硼烷-1,2- 二甲氧基乙烷配位化合物。3.根据权利要求1或2所述的醇化合物的制造方法,其中,具有离析工序,所述离析工序是将所述酸处理工序后的反应液调整为PH5~9而进行重结晶,从而离析所述通式(D)表示的醇化合物。4.一种内酯化合物的制造方法,其特征在于,将下述式(1)表示的化合物用硼氢化钠进行还原来制造下述式(2)表示的内酯化合物和/或下述式(3)表示的内酯化合物的方法中, 相对于下述式(1)表示的化合物,所述硼氢化钠的使用量为0.7~0.95倍摩尔; 5.根据权利要求4所述的内酯化合物的制造方法,其中,所述式(1)表示的化合物为下述式(4)表示的化合物, 所述式(2)表示的内酯化合物为下述式(5)表示的内酯化合物, 所述式(3)表示的内酯化合物为下述式(6)表示的内酯化合物, 6.根据权利要求1~3中任一项所述的醇化合物的制造方法,其中,还具有利用所述权利要求4或5所述的内酯化合物的制造方法而制造所述通式(C)表示的化合物的工序。7.一种(甲基)丙烯酸酯的制造方法,其特征在于,具有以下工序: 通过所述权利要求1~3中任一项所述的醇化合物的制造方法,由下述通式(C)表示的化合物得到下述通式(D)表示的醇化合物的工序,以及 通过酯化反应由下述通式(D)表示的化合物得到下述式(A)表示的(甲基)丙烯酸酯的工序, 8.根据权利要求7所述的(甲基)丙烯酸酯的制造方法,其中,还具有利用所述权利要求4或5所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:佐久间谕,芹泽昌史,安田敦,矢田信久,前田晋一,
申请(专利权)人:三菱丽阳株式会社,
类型:
国别省市:
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