【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及用于获得包含多孔层的窗玻璃的方法，特别地该多孔层具有抗反射或者抗污性质，由基本上由金属(如硅或者钛)、氧和任选的较少量的碳和氢组成的多孔材料组成。该窗玻璃特别地应用在建筑物或者汽车领域中。它还应用在用于收集日光能量的装置中，特别地在光电池或者太阳能收集器的领域中，或者在具有光催化性质的自清洁窗玻璃的领域中。熟知的是，穿过基材，尤其玻璃基材的光的一部分在基材表面上被反射。这种反射显著地降低了光电系统或者由该基材保护的太阳能收集器的效率。在建筑物或者汽车领域中，光反射的降低有时也是希望的。在透明基材，典型地玻璃基材上沉积抗反射涂层的原理在本领域中是熟知的:它涉及在具有约n=l.5的折光指数的基材上设置允许降低在该基材表面处反射光百分比&并且提高其光透射因子?Υ的干涉层或者干涉层的堆叠体。通过调节该堆叠体的连续的不同层的数目、化学本质(并因此它们的光学指数)和厚度，可以使光反射降低至极其低的值，无论这是否在可见光范围(350至800nm)中或者在近红外线范围(800至2500nm)中。例如，已经由本 申请人:公司，特别地在申请EP1206715A1...
【技术保护点】
用于制备包含基材，特别地玻璃基材的窗玻璃的方法，该基材被提供有包含至少一个由多孔材料组成的层的涂层，特别地该层的折光指数由此被降低，该方法包括以下步骤：??经由在真空腔室中物理气相沉积PVD方法在基材上沉积涂层，该涂层包括含至少一种选自Si、Ti、Sn、Al、Zr、In的元素或者这些元素的至少两种的混合物、氧、碳的材料的层，所述层任选地还包含氢，??在允许除去至少一部分碳并获得所述多孔材料层的条件下，热处理如此沉积的层，所述方法特征在于在所述腔室中行进的基材上，通过碳靶的阴极溅射，在包含至少一种所述一种或多种元素的前体的反应性优选氧化性等离子体气氛中实施所述沉积。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.17 FR 11553291.用于制备包含基材，特别地玻璃基材的窗玻璃的方法，该基材被提供有包含至少一个由多孔材料组成的层的涂层，特别地该层的折光指数由此被降低，该方法包括以下步骤: -经由在真空腔室中物理气相沉积PVD方法在基材上沉积涂层，该涂层包括含至少一种选自S1、T1、Sn、Al、Zr、In的元素或者这些元素的至少两种的混合物、氧、碳的材料的层，所述层任选地还包含氢， -在允许除去至少一部分碳并获得所述多孔材料层的条件下，热处理如此沉积的层，所述方法特征在于在所述腔室中行进的基材上，通过碳靶的阴极溅射，在包含至少一种所述一种或多种元素的前体的反应性优选氧化性等离子体气氛中实施所述沉积。2.根据权利要求1的方法，其中施用于阴极上的功率为0.5至20kW/m。3.根据前述权利要求之一的方法，其中在真空腔室中的气体的总压力为0.1至2Pa。4.根据前述权利要求之一的方法，其中在该腔室中的一种或多种前体的分压为0.05至 1.5Pa。5.根据前述权利要求之一的方法，其中该反应性等离子体气氛基本上由中性气体，如氩气和至少一种包含氧的前体组成。6.根据权利要求1-4之一的方法，其中该反应性等离子体气氛包含中性气体，如氩气，和氧化性气体，如氧，的混合物。7.根据权利要求1-4 之一的方法，其中该反应性等离子体气氛基本上由前体组成，该前体的至少一种包含氧。8.根据前述权利要求之一的方法，其中热处理步骤在允许除去至少一部分碳的条件下进行实施，直至获得其中碳含量低于15原子％，优选低于10原子％，非常优选低于5原子％的多孔层。9.根据前述权利要求之一的方法，其中该层的热处理通过在300°C至800°C的加热实施低于I小时的时间段。10.根据前述权利要求之一的方法，其中使用硅或者主要包括硅的元素混合物作为元素。11.根据权利要求10的方法，其中该热处理在允许除去至少一部分碳和氢的条件下进行实施...
【专利技术属性】
技术研发人员：A卡申科，JP鲁索，A容，CB佩特森，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃厂，
类型：
国别省市：
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