废气通道制造技术

技术编号:9721110 阅读:132 留言:0更新日期:2014-02-27 10:41
一种封闭式熔炼炉(2)的废气通道(1),该废气通道(1)包括通向熔炼炉(2)的上部分的第一端部(3)和通向气体净化装置(5)以用于将炉废气引导到气体净化装置的第二端部(4)。废气通道包括适合于将加压流体喷射到所述废气通道的内表面的至少一个净化喷嘴(6、7、8、9)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】废气通道
本专利技术涉及封闭式熔炼炉的废气通道。废气通道包括通向熔炼炉的上部分的第一端部和通向气体净化装置以用于将炉废气引导到气体净化装置的第二端部。
技术介绍
在现有技术中废气通道被沉淀在通道壁的内表面上的尘粒堵塞从而阻挡来自熔炼炉的废气的出射流是减小熔炼炉的操作时间比的最重要因素之一。图2显示在示例性状态下的现有技术的废气通道I的堵塞状态。当然,应当理解在每个熔炼炉中堵塞模式可能不同。也称为鹅颈管的废气通道I在废气流动的方向上包括大致直立的第一端部分12(其第一下端3连接到熔炼炉2)、弯曲部分13、倾斜部分14以及第二端部分15。从熔炼炉2离开的废气包含一氧化碳、氢、水和尘粒。沉淀尘粒的积累(即,堵塞17)尤其出现在倾斜部分14的下部分处并且也出现在鹅颈管I连接到洗涤器5处的第二端部分15中。在实践中,当熔炼炉是铬铁熔炼炉时,已证明取决于炉操作,废气通道需要以一定的时间间隔(典型地低于一个月)进行净化。每次的净化操作导致大约I到2小时的生产中断,这导致经济损失。炉越大,经济损失越大。专利技术目的本专利技术的目的是克服如上所述的现有技术的缺陷。
技术实现思路
根据本专利技术,一种废气通道包括适合于将加压流体喷射到所述废气通道的内表面的至少一个净化喷嘴。本专利技术的优点在于可以通过流体和/或气体的喷射净化废气通道去除积累的尘粒。待喷射的流体可以是液体和/或气体。例如,水和氮气是适合于该目的的流体。可以连续地或周期性(例如,每天一次、每天两次等)地喷射流体以保持废气通道干净。可以避免堵塞并且可以减小炉的停工时间。需要更少的时间维护。废气通道中的附加喷嘴也减小废气温度并且结合一些灰尘,因此使气体净化更高效。在一个实施例中,所述气体净化装置是包括具有上端的直立喷射文丘里管的文丘里洗涤器。所述废气通道的第二端部连接到所述文丘里管的上端。在一个实施例中,所述废气通道是鹅颈管通道,所述鹅颈管通道在废气流动的方向上包括大致直立的第一端部分、弯曲部分、倾斜部分以及具有顶部的第二端部分,所述第一端部分的第一下端连接到所述熔炼炉。在一个实施例中,所述废气通道包括第一净化喷嘴,所述第一净化喷嘴连接在所述弯曲部分的壁处并且适合于将加压液体喷射到所述倾斜部分的内表面上。在一个实施例中,所述废气通道包括第二净化喷嘴,所述第二净化喷嘴连接在所述第二端部分的顶部处并且适合于将加压液体喷射到所述第二端部分的内表面和所述第二端部分与所述文丘里管之间的连接部上。在一个实施例中,所述废气通道包括第三净化喷嘴,所述第三净化喷嘴连接在所述倾斜部分的上端处并且适合于将加压液体喷射到所述倾斜部分的下壁部分的内表面上。在一个实施例中,所述废气通道包括多个第四净化喷嘴,所述多个第四净化喷嘴连接在所述倾斜部分处并且适合于将加压气体喷射到所述倾斜部分的下壁部分的内表面上。【附图说明】被包括以提供本专利技术的更好理解的、构成说明书的一部分的附图示出本专利技术的优选实施例并且有助于解释本专利技术的原理。图1示意性地显示熔炼炉、气体净化装置和用于将离开熔炼炉的废气引导到气体净化装置的废气通道;图2在横截面中显示现有技术的废气通道,废气通道的第一端部连接到熔炼炉并且第二端部连接到气体净化装置;图3在横截面中显示本专利技术的第一实施例的废气通道,废气通道的第一端部连接到熔炼炉并且第二端部连接到气体净化装置;以及图4在横截面中显示本专利技术的第二实施例的废气通道,废气通道的第一端部连接到熔炼炉并且第二端部连接到气体净化装置。【具体实施方式】参考图1,示意性地示出熔炼炉2、废气通道I和气体净化装置5的布置。熔炼炉2是封闭式埋弧炉。经由废气通道I离开的废气主要包含CO气体和灰尘并且也包含氢和水。废气通道I包括通向熔炼炉2的上部分的第一端部3。废气通道I的第二端部4通向气体净化装置5以用于将炉废气引导到气体净化装置。参考图3和4,废气通道I包括适合于将加压流体喷射到废气通道I的内表面上的至少一个净化喷嘴6、7、8、9。优选地,布置有至少两个净化喷嘴。净化喷嘴布置成冲洗废气通道I的整个内表面。废气通道I的第二端部4连接到气体净化装置5。气体净化装置5可以是包括直立喷射文丘里管10的文丘里洗涤器。文丘里管10包括收敛部段18、喉部19和发散部段20。用于喷射水射流的喷嘴21布置在喉部19中。文丘里管10具有上端11。废气通道I的第二端部4连接到文丘里管10的上端11。如图3和4中所见,废气通道I是鹅颈管通道。在废气流动的方向上废气通道I包括大致直立的第一端部分12,第一端部分的第一下端3连接到熔炼炉2。第一端部分12后面接着弯曲部分13,弯曲部分后面接着相对于竖直线成锐角的倾斜部分14。最后,倾斜部分14终止于具有顶部16的第二端部分15中。第二端部分15向下敞开并且将废气排出到文丘里管10的上端11。参考图3的实施例,显示用于喷射加压水的两个净化喷嘴6和7。第一净化喷嘴6连接在弯曲部分13的壁处并且适合于将加压水射流喷射到倾斜部分14的内表面上。第二净化喷嘴7连接在第二端部分15的顶部16处。第二净化喷嘴7适合于将加压水射流喷射到第二端部分15的内表面和第二端部分15与文丘里管10之间的连接部上。水射流分离并且冲走积累在废气通道I的内表面上的任何堵塞。待喷射的水的压力可以为例如大约30巴。参考图4的实施例,显示用于喷射加压水的两个净化喷嘴7和8以及用于喷射气体射流的多个净化喷嘴9。第二净化喷嘴7连接在第二端部分15的顶部16处。第二净化喷嘴7适合于将加压水射流喷射到第二端部分15的内表面和第二端部分15与文丘里管10之间的连接部上。第三净化喷嘴8连接在倾斜部分14的上端处。第三净化喷嘴8适合于将加压水射流喷射到倾斜部分14的下壁部分的内表面上。待喷射的水的压力可以为例如大约30巴。此外,废气通道I包括多个第四净化喷嘴9。第四净化喷嘴9连接在倾斜部分14处并且适合于将加压氮气喷射到倾斜部分14的下壁部分的内表面上。水射流和氮气射流分离并且冲走积累在废气通道I的内表面上的任何堵塞。图3和4中所示的净化喷嘴布置的任何组合也是可能的。喷嘴可以被控制成连续地或周期性地喷射。一些净化喷嘴也可以连续地喷射,而其它净化喷嘴周期性地喷射。净化喷嘴6、7、8、9可以由控制阀(未显示)控制以执行周期性喷射循环。如果水用作待喷射的液体,则将水泵送到文丘里管中的喷嘴的相同泵可以用于将水泵送到净化喷嘴。如果不假设净化喷嘴6、7、8、9连续地喷射,则当它们未在喷射液体和/或气体时它们必须放置在水冷却套管的内部的腔中以防止净化喷嘴被损坏。本领域的技术人员显而易见,随着技术的进步,本专利技术的基本思想可以以各种方式实现。本专利技术及其实施例因此不限于上述的例子;相反地,它们可以在权利要求的范围内变化。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种封闭式熔炼炉(2)的废气通道(1),所述废气通道(1)包括通向所述熔炼炉(2)的上部分的第一端部(3)和通向气体净化装置(5)以用于将炉废气引导到所述气体净化装置的第二端部(4),其特征在于,所述废气通道包括适合于将加压流体喷射到所述废气通道的内表面的至少一个净化喷嘴(6、7、8、9)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.29 FI U201140771.一种封闭式熔炼炉(2)的废气通道(1),所述废气通道(I)包括通向所述熔炼炉(2)的上部分的第一端部(3)和通向气体净化装置(5)以用于将炉废气引导到所述气体净化装置的第二端部(4),其特征在于,所述废气通道包括适合于将加压流体喷射到所述废气通道的内表面的至少一个净化喷嘴(6、7、8、9 )。2.根据权利要求1所述的废气通道,其特征在于,所述气体净化装置(5)是包括具有上端(11)的直立喷射文丘里管(10)的文丘里洗涤器,并且所述废气通道(I)的第二端部(4)连接到所述文丘里管(10)的上端(11)。3.根据权利要求1或2所述的废气通道,其特征在于,所述废气通道(I)是鹅颈管通道,所述鹅颈管通道在废气流动的方向上包括大致直立的第一端部分(12)、弯曲部分(13)、倾斜部分(14)以及具有顶部(16)的第二端部分(15),所述第一端部分的第一下端(3)连接到所述熔炼炉(2)。4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:O·佩卡拉
申请(专利权)人:奥图泰有限公司
类型:
国别省市:

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