一种刻度氙气样品HPGe探测效率的装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术一种刻度氙气样品HPGe探测效率的装置及方法，包括放射源、多个不同高度的装有空气的聚乙烯盒、探测器；放射源包括133Ba面源和137Cs点源；面源铝底衬作为上吸收层；137Cs点源位于133Ba面源上面中心位置；133Ba面源位于装空气样品的聚乙烯盒上方，聚乙烯盒上下面作为下吸收层；探测器包括晶体、位于晶体外的铝外壳、位于铝外壳上且位于晶体上方的碳材料窗；聚乙烯盒放置在探测器窗上方。本发明专利技术使用的放射源高度等间隔增加，使用133Ba面源来替代133Xe样品进行效率刻度，使用137Cs点源峰效率来校正133Ba面源峰效率的符合相加校正因子，其解决了现有探测效率刻度方法对源的活度要求非常高、射线存在自吸收问题、存在较大的不确定度的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
—种刻度氙气样品HPGe探测效率的装置及方法
本专利技术属于辐射探测技术方法，具体涉及了 133Xe气体的探测效率面源效率刻度技术及放射源的级联符合相加效应的校正技术。
技术介绍
全面禁止核试验条约主要使用放射性核素监测来履约和监测各种核试验。在一次核爆中，将会大量产生四种放射性氙同位素=mniXe (t1/2=l1.84d), 133Xe (t1/2=5.243d), 133mXe (t1/2=2.19d), 135Xe (t1/2=9.14h)，这些核素由于其半衰期较长，在核爆几天内还是比较容易被探测到，国际上重点关注的气体核素为133Xe气体，因此对其监测的技术手段成为各国研究的重点内容。一般测量mXe气体采用β-Y符合法、HPGe Y能谱分析法。β — Y符合法采用了符合技术，有效降低了环境放射性本底影响，系统的探测限较高。测量放射性气体氙时，气体会通过扩散作用附集在探测器内壁，难以清除干净，形成所谓的“记忆效应”，从而极大地影响β — Y符合法测量放射性氙的灵敏度。HPGey能谱直接用于氙同位素四种核素的测量，且能量分辨率也比较高，是比较成熟的技术，适合现场测量；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种刻度氙气样品HPGe探测效率的装置，其特征在于：包括放射源、多个不同高度的装有空气的聚乙烯盒、探测器；所述放射源包括133Ba面源和137Cs点源；所述面源铝底衬作为上吸收层；所述137Cs点源位于133Ba面源上面中心位置；所述133Ba面源位于装空气样品的聚乙烯盒上方，聚乙烯盒上下面作为下吸收层；所述探测器包括晶体、位于晶体外的铝外壳、位于铝外壳上且位于晶体上方的碳材料窗；聚乙烯盒放置在探测器的碳材料窗上方。

【技术特征摘要】
1.一种刻度氙气样品HPGe探测效率的装置，其特征在于: 包括放射源、多个不同高度的装有空气的聚乙烯盒、探测器； 所述放射源包括mBa面源和137Cs点源；所述面源铝底衬作为上吸收层；所述137Cs点源位于133Ba面源上面中心位置；所述133Ba面源位于装空气样品的聚乙烯盒上方，聚乙烯盒上下面作为下吸收层； 所述探测器包括晶体、位于晶体外的铝外壳、位于铝外壳上且位于晶体上方的碳材料窗；聚乙烯盒放置在探测器的碳材料窗上方。2.根据权利要求1所述的刻度氙气样品HPGe探测效率的装置，其特征在于:所述多个聚乙烯盒高度范围为0.5-20cm。3.根据权利要求2所述的刻度氙气样品HPGe探测效率的装置，其特征在于:所述多个聚乙烯盒高度范围为0.5-2.5、18-20cm。4.根据权利要求2所述的刻度氙气样品HPGe探测效率的装置，其特征在于:所述聚乙烯盒高度为20cm。5.一...

【专利技术属性】
技术研发人员：田自宁，欧阳晓平，张显鹏，宋纪文，张建福，阮金陆，
申请(专利权)人：西北核技术研究所，
类型：发明
国别省市：