【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光电集成电路的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：a.对硅片进行处理，使硅片的一部分具备氧化层；b.将硅片有氧化层的部分和无氧化层的部分进行隔离；c.在硅片上无氧化层的部分制造光电器件，在氧化层上制造电子器件。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张有润，董梁，刘影，张飞翔，孙成春，张波，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。