沉积装置及使用该沉积装置测量沉积材料的剩余量的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种沉积装置及使用该沉积装置测量沉积材料的剩余量的方法。所述沉积装置包括：包括观测窗的处理室、布置在处理室中以在第一方向上与观测窗重叠的坩埚、布置在观测窗与坩埚之间以在第一方向上与观测窗重叠并且关于第一方向旋转的盘片、联接至处理室和盘片以使盘片旋转的旋转单元、布置在盘片与坩埚之间且提供有穿过其自身形成并在第一方向上与观测窗重叠的开口的沉积防止板、以及布置在处理室的外部以在第一方向上与观测窗、盘片和坩埚重叠的测量传感器。该测量传感器检测沉积材料与测量传感器之间的距离，以测量沉积材料的剩余量。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种。所述沉积装置包括：包括观测窗的处理室、布置在处理室中以在第一方向上与观测窗重叠的坩埚、布置在观测窗与坩埚之间以在第一方向上与观测窗重叠并且关于第一方向旋转的盘片、联接至处理室和盘片以使盘片旋转的旋转单元、布置在盘片与坩埚之间且提供有穿过其自身形成并在第一方向上与观测窗重叠的开口的沉积防止板、以及布置在处理室的外部以在第一方向上与观测窗、盘片和坩埚重叠的测量传感器。该测量传感器检测沉积材料与测量传感器之间的距离，以测量沉积材料的剩余量。【专利说明】优先权要求本申请参考早先于2010年8月9日递交韩国知识产权局并因而被正式分配序列号 10-2012-0087362 的申请“DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF MEASURING RESIDUALAMOUNT OF DEPOSITION MATERIAL USING THE SAME ()”，将其合并于此，并要求其所有权益。
本公开涉及能够基于测量传感器与沉积材料之间的距离测量沉积材料的剩余量的。
技术介绍
一般而言，使用沉积装置来制造各种设备，例如显示设备。沉积装置包括处理室和布置在处理室中以容纳沉积材料的坩埚。从坩埚蒸发的沉积材料沉积到置于坩埚上方的基板上。在使用沉积装置将沉积材料沉积到基板上的情况下，需要测量坩埚中沉积材料的剩余量，以找出为坩埚补给沉积材料的时间。为此，沉积装置包括安装在处理室内部的晶体传感器，以测量坩埚中的沉积材料的剩余量。晶体传感器检测振动次数根据附着到晶体传感器上的沉积材料的厚度产生的变化。然而，在更换基板而晶体传感器被维持时，晶体传感器的方向和位置改变，因此，难以精确地测量坩埚中沉积材料的剩余量。`
技术实现思路
本专利技术可以提供能够测量沉积材料的剩余量的沉积装置。本专利技术可以提供测量沉积装置中的沉积材料的剩余量的方法。本专利技术的一个或多个实施例可以提供包括处理室、坩埚、盘片、旋转单元、沉积防止板和测量传感器的沉积装置。处理室可以包括布置在其上壁的一部分处的观测窗。坩埚可以布置在所述处理室的内部的下壁上，以在第一方向上与所述观测窗重叠，并且在坩埚中容纳有沉积材料.盘片可以布置在所述观测窗与所述坩埚之间，以在所述第一方向上与所述观测窗重叠，并且盘片可以关于所述第一方向旋转。在一些实施例中，当在所述第一方向上观看时，所述盘片可以具有圆形形状。所述旋转单元可以联接至所述处理室和所述盘片以使所述盘片旋转。在一些实施例中，所述旋转单元可以包括:附接到所述处理室的上壁的旋转电机；以及在所述第一方向上延伸的轴，所述轴旋转地联接至所述旋转电机和所述盘片。在一些实施例中，所述轴连接到所述盘片的中央。在一些实施例中，当在所述第一方向上观看时，所述轴可以布置为与所述观测窗间隔开。所述沉积防止板可以布置在所述盘片与所述坩埚之间，并且提供有穿过所述沉积防止板形成的开口。所述开口可以在所述第一方向上与所述观测窗重叠。所述测量传感器可以布置在所述处理室的外部，以在所述第一方向上与所述观测窗、所述盘片和所述坩埚重叠。所述测量传感器检测所述沉积材料与所述测量传感器之间的距离，以测量所述沉积材料的剩余量。所述测量传感器可以包括:光发射部，沿所述第一方向向所述观测窗发射激光束；以及光接收部，接收所述激光束的一部分。所述观测窗和所述盘片可以包括石英。当在所述第一方向上观看时，所述观测窗可以与所述盘片的周围区域重叠。在本专利技术的一些实施例中，沉积装置可以包括提供于所述处理室中的传送单元，其中至少一个基板安装在所述传送单元上，所述传送单元在与所述第一方向垂直的第二方向上移动，以从所述沉积防止板和所述坩埚之间穿过，并且所述沉积防止板和所述坩埚被布置为彼此重叠，并且所述沉积材料被沉积在所述基板上。本专利技术构思的实施例提供一种测量沉积材料的剩余量的方法，该方法可以包括:准备沉积装置，该沉积装置包括具有观测窗的处理室、容纳沉积材料的坩埚、盘片、联接至所述盘片的旋转单元以及布置在所述处理室的外部以在第一方向上与所述观测窗、所述盘片和所述坩埚重叠的测量传感器；准备第一基板以及在与所述第一方向垂直的第二 (或水平)方向上以预定距离与所述第一基板间隔开的第二基板；使所述第一基板经过所述坩埚上方；将所述沉积材料沉积在所述第一基板上；在所述第一基板从所述坩埚离开后，测量所述沉积材料的剩余量；使所述第二基板经过所述坩埚上方；将所述沉积材料沉积在所述第二基板上；以及在所述第二基板从所述坩埚离开后，测量所述沉积材料的剩余量。测量所述沉积材料的剩余量可以包括:检测所述测量传感器与所述坩埚中的所述沉积材料之间的距离以测量所述沉积材料的剩余量。从所述测量传感器发出的激光束入射到所述沉积材料，并且所述激光束的从所述沉积材料反射的部分在穿过所述盘片和所述观测窗之后入射到所述测量传感器。根据以上内容，沉积装置可以使用发出激光束的测量传感器实时地测量沉积材料的剩余量。另外，尽管测量了沉积材料的剩余量，但沉积工艺不需要停止，从而改进沉积工艺的工艺产量。【专利附图】【附图说明】由于通过参考以下结合附图考虑时的详细描述，本专利技术变得更好理解，因此本专利技术的更完整理解以及伴随本专利技术的诸多优点会变得更容易明显，在附图中同样的附图标记指代相同或相似的部件，附图中:图1是示出根据本专利技术实施例的沉积装置的剖视图。图2是示出在第一方向上观看的图1所示观测窗和盘片的平面图。图3是示出图1所示测量传感器的框图。图4是示出图1所示观测窗、坩埚、盘片、测量传感器和沉积防止板的透视图。【具体实施方式】下文中将参照附图更充分地描述本专利技术。现在将详细参考实施例，实施例的示例示于附图中，附图中相同的附图标记始终指代相同的元件。在这一点上，当前实施例可能具有不同的形式，而不应当被解释为限于这里给出的描述。因此，以下仅通过参照附图描述实施例，以解释本描述的各方面。可以理解，当提及一元件或层位于另一元件或层“上”或者“连接至”或“联接至”另一元件或层时，该元件或层可以直接位于其它元件或层上或者直接连接至或联接至其它元件或层，也可以存在中间元件或层。相反，当提及一元件“直接位于”另一元件或层“上”或者“直接连接至”或“直接联接至”另一元件或层时，不存在中间元件或层。相同的附图标记始终指代相同的元件。这里所使用的词语“和/或”包括所列出的相关联项目中的一个或多个的任意组合和所有组合。可以理解，尽管这里可能使用词语第一、第二等来描述各种元件、部件、区域、层和/或部分，但这些元件、部件、区域、层和/或部分不应当受限于这些词语。这些词语仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一元件、部件、区域、层或部分区分开来。因此，以下所讨论的第一元件、部件、区域、层或部分可以被命名为第二元件、部件、区域、层或部分，而不背离本专利技术的教导。为了易于描述，这里可以使用空间上相对的词语，例如“下面”、“下方”、“下”、“上方”和“上”等，以描述如图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征(或其它元件或特征)的关系。可以理解，空间上相对的词语意在除图中描绘的定向之外还包含处于使用中或操作中的设备的不同定向。例如，如果图中的设备翻转，则被描述为在其它元件或特征“下方”或“下面”的元件就会被定向为位于其它元件或特征“本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沉积装置包括：包括观测窗的处理室，所述观测窗布置在所述处理室的上壁的一部分处；坩埚，布置在所述处理室的内部的下壁上，以在第一方向上与所述观测窗重叠，并且所述坩埚中容纳有沉积材料；盘片，布置在所述观测窗与所述坩埚之间，以在所述第一方向上与所述观测窗重叠，并且所述盘片关于所述第一方向旋转；旋转单元，联接至所述处理室和所述盘片以使所述盘片旋转；以及测量传感器，布置在所述处理室的外部，以在所述第一方向上与所述观测窗、所述盘片和所述坩埚重叠，并且所述测量传感器检测所述沉积材料与所述测量传感器之间的距离，以测量所述沉积材料的剩余量。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金娫佑，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：