【技术实现步骤摘要】
上模座组定位机构的改进结构
本技术涉及高分子成型加工机构,特别是关于一种上模座组定位机构的改进结构。
技术介绍
申请人在前所申请的中国第200420096035.1号新型创作中提供一种适于使枢转后的上模座组受到适当定位的具体结构设计,并进一步于其具体实施例中揭露了一基本构成的实施态样以及另一设置有真空罩的具体应用例。但是,申请人认为该先新型申请案中所揭的具体实施例态样,尚不足以完全体现其技术特征于产业上应用的范畴,有加以补充的必要,因此再提出本案的申请,并将其另一可体现的具体实施例再予载明。新型内容因此,本技术的主要目的即在提供一种上模座组定位机构的改进结构,其可有效地使上模座组受到妥适的定位,并用以补充上述该新型专利先申请案的具体实施态样。为达成上述目的,本技术所提供上模座组定位机构的改进结构,包括:一基座,具有一底部,一个或多个枢部,自该底部向上伸出;一上模座组,具有一一侧枢接在该枢部顶端上,并可以之为轴而于一合模位置及一开模位置间枢转动作的板状上模座;一位于该上模座上并可随该上模座位移的拘件,其具有一个或多个可于一拘束及一释放位置间往复位移的拘部;一位于该基座上并与该拘部相对应的定位件,具有一个或多个对应于该合模位置上的拘部所在位置的合模定位部,一对应于该开模位置上拘部所在位置的开模定位部;其特征在于:该上模座组还包括一板状的并可于一与该上模座的底侧端面相邻对应的上位及一与该上侧模座的底侧端面相隔开来的下位位置间位移作动的可动模座,平行地位于该上模座的下方,以及,一用于驱动该可动模座于各该上、下位位置间-->往复位移作动的驱动部。本技术有益效果:根 ...
【技术保护点】
一种上模座组定位机构的改进结构,包括:一基座,具有一底部,一个或多个枢部,自该底部向上伸出;一上模座组,具有一一侧枢接在该枢部顶端上,并可以之为轴而于一合模位置及一开模位置间枢转动作的板状上模座;一位于该上模座上并可 随该上模座位移的拘件,其具有一个或多个可于一拘束及一释放位置间往复位移的拘部;一位于该基座上并与该拘部相对应的定位件,具有一个或多个对应于该合模位置上的拘部所在位置的合模定位部,一对应于该开模位置上拘部所在位置的开模定位部; 其特征在于:该上模座组还包括一板状的并可于一与该上模座的底侧端面相邻对应的上位及一与该上侧模座的底侧端面相隔开来的下位位置间位移作动的可动模座,平行地位于该上模座的下方,以及,一用于驱动该可动模座于各该上、下位位置间往复位移作动的驱 动部。
【技术特征摘要】
1、一种上模座组定位机构的改进结构,包括:一基座,具有一底部,一个或多个枢部,自该底部向上伸出;一上模座组,具有一一侧枢接在该枢部顶端上,并可以之为轴而于一合模位置及一开模位置间枢转动作的板状上模座;一位于该上模座上并可随该上模座位移的拘件,其具有一个或多个可于一拘束及一释放位置间往复位移的拘部;一位于该基座上并与该拘部相对应的定位件,具有一个或多个对应于该合模位置上的拘部所在位置的合模定位部,一对应于该开模位置上拘部所在位置的开模定位部;其特征在于:该上模座组还包括一板状的并可于一与该上模座的底侧端面相邻对应的上位及一与该上侧模座的底侧端面相隔开来的下位位置间位移作动的可动模座,平行地位于该上模座的下方,以及,一用于驱动该可动模座于各该上、下位...
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