【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种光学层析成像装置,其特征在于,具有:光源;照射光纤,其将来自所述光源的光照射在测定对象上;受光光纤,其接收与所述照射光纤的光照射相伴而从所述测定对象射出的光;检测部,其用于检测由所述受光光纤受光的光的强度;以及解析部,其基于通过所述检测部检测到的光的强度,求出所述测定对象内部的光学特性值,所述照射光纤和所述受光光纤中的至少一方是将多根光纤捆束而形成束状,所述多根光纤的数值孔径大于或等于2种。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:中路晴雄,福山秀直,矶祐介,浦山慎一,大石直也,藤原宏志,
申请(专利权)人:住友电气工业株式会社,国立大学法人京都大学,
类型:
国别省市:
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