本发明专利技术提供了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板及显示装置，该方法包括：提供一基板；在所述基板上形成彩色像素单元；在所述彩色像素单元上形成保护层；在所述保护层上依次涂布配向膜涂料及隔垫物涂料，并通过一次或两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物。采用本发明专利技术的技术方案，能够节省彩膜基板的产线运输时间，减少生产工艺，提高生产周期，降低生产成本。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板及显示装置，该方法包括：提供一基板；在所述基板上形成彩色像素单元；在所述彩色像素单元上形成保护层；在所述保护层上依次涂布配向膜涂料及隔垫物涂料，并通过一次或两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物。采用本专利技术的技术方案，能够节省彩膜基板的产线运输时间，减少生产工艺，提高生产周期，降低生产成本。【专利说明】彩膜基板的制造方法、彩膜基板及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板及显示装直。
技术介绍
彩膜(CF)基板为显示器件的主要组成部分，随着彩膜基板技术的发展，降低其生产成本和缩短制备时间成为行业发展不断追求价值的方向。请参考图1，图1为现有技术中的彩膜基板的结构示意图。下面结合图1对现有技术中的彩膜基板的制造方法进行说明:第一步:在基板101的一侧形成透明导电层102 ；第二步:在基板101的另一侧形成黑矩阵(BM，Black Matrix) 103 ；第三步:在黑矩阵103上形成彩色像素单元104 ；第四步:在彩色像素单元104上形成保护层(OC) 105 ；第五步:在保护层105上形成柱状隔垫物(PS, Photo Spacer) 106 ；第六步:在柱状隔垫物106上形成配向膜层(PI, Polyimide film) 107。为了使大部分液晶分子的长轴方向能沿着一个方向排列，在形成配向膜层后，还需要在Cell段制程对配向膜层进行摩擦取向(Rubbing)处理。请参考图2，图2为现有技术中Cell段制程对彩色基板上的配向膜进行摩擦取向处理的示意图，通常采用的方法为:将涂布配向膜层的彩膜基板201装载在基台202上，通过一根固定的高速旋转的摩擦辊203(摩擦辊203上缠绕着摩擦布)，使配向膜层表面的分子沿摩擦方向排列，进而使配向膜层的分子与液晶分子之间的相互作用力增强，并影响液晶分子的定向效果。由于上述制备方法中需要将涂布配向膜层的彩膜基板运输到Cell段制程进行摩擦取向以便形成取向层，产线运输时间较长，另外，在Cell段制程对配向膜层进行摩擦取向处理的工艺过程相对繁琐，生产周期较长，且成本较高。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板及显示装置，以减少彩膜基板的生产时间。为解决上述问题，本专利技术提供了一种彩色基板的制造方法，包括:提供一基板；在所述基板上形成彩色像素单元；在所述彩色像素单元上形成保护层；在所述保护层上依次涂布配向膜涂料及隔垫物涂料，并通过一次或两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物。进一步的，所述在基板上形成彩色像素单元之前，还包括:在所述基板的一侧形成黑矩阵；在所述基板的另一侧形成透明导电层；所述在基板上形成彩色像素单元具体为:在所述黑矩阵上形成所述彩色像素单J Li ο进一步的，所述隔垫物涂料为透明涂料，通过一次构图工艺，同时形成取向膜层及隔垫物。进一步的，所述隔垫物涂料为不透明涂料，通过两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物。进一步的，所述通过两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物的步骤包括:对涂布所述隔垫物涂料的基板进行一次曝光显影，形成隔垫物；对形成所述隔垫物的基板再进行一次曝光显影，形成取向膜层。进一步的，所述配向膜涂料为添加了聚丙烯酸的聚酰亚胺液晶取向剂。进一步的，所述在所述保护层上涂布配向膜涂料的步骤之后还包括:对所述配向膜涂料进行预热固化处理。本专利技术还提供一种彩膜基板，采用上述方法制造而成。本专利技术还提供一种显示装置，包括上述彩膜基板。本专利技术的上述技术方案的有益效果如下:本专利技术实施例的彩膜基板的制造过程中，在形成保护层后，不按照现有技术中的先形成隔垫物再形成取向膜层的制造方法，而是先涂布配向膜涂料，再涂布隔垫物涂料，并通过一次或两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物，从而不需要将彩膜基板运输到Cell段制程进行摩擦取向处理，节省了产线运输时间，并减少了生产工艺，提高了生产周期，降低了生产成本。【专利附图】【附图说明】图1为现有技术中的彩膜基板的结构示意图；图2为现有技术中Cell段制程对彩色基板上的配向膜进行摩擦取向处理的示意图；图3为本专利技术实施例一的彩膜基板的制造方法的流程示意图；图4为本专利技术实施例二的彩膜基板的制造方法的流程示意图；图5为本专利技术实施例三的彩膜基板的制造方法的流程示意图；图6为本专利技术实施例的曝光工艺的示意图；图7为本专利技术实施例的显影后的彩膜基板的结构示意图；图8为本专利技术实施例四的彩膜基板的制造方法的流程示意图；图9为本专利技术实施例五的彩膜基板的结构示意图。【具体实施方式】针对现有技术中需要将涂布取向膜层的彩膜基板运输到Cell段制程进行摩擦取向处理以对取向膜层的分子进行取向，工艺繁琐，导致生产周期长、成本高的问题，本专利技术实施例的彩膜基板的制造过程中，在形成保护层后，不按照现有技术中的先形成隔垫物再形成取向膜层的制造方法，而是先涂布配向膜涂料，再涂布隔垫物涂料，并通过一次或两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物，从而不需要将彩膜基板运输到Cell段制程进行摩擦取向处理，节省了产线运输时间，并减少了生产工艺，提高了生产周期，降低了生产成本。为使本专利技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。请参考图3，图3为本专利技术实施例一的彩膜基板的制造方法的流程示意图，所述制造方法包括以下步骤:步骤S31:提供一基板；步骤S32:在所述基板上形成彩色像素单元；步骤S33:在所述彩色像素单元上形成保护层；步骤S34:在所述保护层上依次涂布配向膜涂料及隔垫物涂料，并通过一次或两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物。通过上述实施例提供的方法，在制造彩膜基板时，通过将取向膜层和隔垫物的制备工艺合并成一步构图工艺或通过两步构图工艺完成，从而不需要将彩膜基板运输到Cell段制程进行摩擦取向处理，节省了产线运输时间，并减少了生产工艺，提高了生产周期，降低了生产成本。进一步的，当隔垫物涂料为透明涂料时，可以通过一次构图工艺，同时形成取向膜层及隔垫物。当隔垫物涂料为不透明涂料时，可以通过两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物。所述通过一次构图工艺，同时形成取向膜层及隔垫物可以具体包括:对涂布所述配向膜涂料及隔垫物涂料的基板进行一次曝光显影，同时形成取向膜层及隔垫物。下面举例对一次构图工艺的方案进行说明。请参考图4，图4为本专利技术实施例二的彩膜基板的制造方法的流程示意图，所述制造方法包括以下步骤:步骤S41:提供一基板；所述基板可以为玻璃基板，也可以为其他透明材质的基板。步骤S42:在所述基板的一侧形成透明导电层；所述透明导电层可以为氧化铟锡(ITO)材质制成，也可以为其他透明导电材质制成。步骤S43:在所述基板的另一侧形成黑矩阵；步骤S44:在所述黑矩阵上形成彩色像素单元；所述彩色像素单元可以包括三个子像素单元，例如红/绿/蓝(R/G/B)三个子像素单元，当然，彩色像素单元也可以为其他的结构方式。步骤S45:在所述彩色像素单元上形成保护层；步骤S46:在所述保护层上涂布配向膜涂料及透明隔垫物涂料，并通过一次构图工艺，同时形成取向膜层及透明隔垫物。需要说明的是，本专利技术实施例中的彩膜基板的个别层的形成顺序，并不被上述步骤的执行顺序本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种彩膜基板的制造方法，包括：提供一基板；在所述基板上形成彩色像素单元；在所述彩色像素单元上形成保护层；在所述保护层上依次涂布配向膜涂料及隔垫物涂料，并通过一次或两次构图工艺，形成取向膜层及隔垫物。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张继凯，杨同华，万冀豫，王丹，李圭铉，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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